เครื่องทำความสะอาดเวเฟอร์ TEL CELLESTA™ -i MD

TEL CELLESTA™ -i MD คือระบบทำความสะอาดเวเฟอร์เดี่ยวขนาด 300 มม. ระดับเรือธงของ Tokyo Electron (TEL) สำหรับกระบวนการผลิต 10 นาโนเมตรขึ้นไป ได้รับการออกแบบมาโดยเฉพาะเพื่อแก้ปัญหาความท้าทายหลักในกระบวนการผลิต เช่น ความเปราะบางของโครงสร้างไมโครแพทเทิร์นต่อความเสียหายระหว่างการทำความสะอาดและการอบแห้งในกระบวนการผลิตขั้นสูง และเป็นอุปกรณ์สำคัญที่ช่วยเพิ่มผลผลิตสำหรับชิปคุณภาพสูง

ประสิทธิภาพหลัก: การวิเคราะห์เทคโนโลยีและการสนับสนุนข้อมูล

เพื่อให้เข้าใจได้ง่ายยิ่งขึ้น จึงขอสรุปคุณสมบัติทางเทคนิคที่สำคัญไว้ด้านล่างนี้:

คุณสมบัติหลัก ตัวชี้วัดประสิทธิภาพ และรายละเอียดทางเทคนิค

บริษัทมุ่งเน้นการวางตำแหน่งกระบวนการผลิตที่ระดับ 10 นาโนเมตรขึ้นไป โดยมีความเชี่ยวชาญเป็นพิเศษในการทำความสะอาดและกำจัดอนุภาคบนพื้นผิวเวเฟอร์ที่มีลวดลายโดยไม่ทำลายพื้นผิว

เทคโนโลยีหลัก: การทำความสะอาดและการอบแห้ง ช่วยให้การอบแห้งปราศจากการยุบตัวของลวดลายด้วยการควบคุมบรรยากาศภายในห้องและการเพิ่มประสิทธิภาพของหัวฉีด IPA (ไอโซโพรพิลแอลกอฮอล์) สามารถใช้สารละลายเคมี เช่น SC-1 และ DHF สำหรับการกัดกรดแบบเปียก และสามารถผสานรวมฟังก์ชันการทำความสะอาดทางกายภาพ เช่น การแปรงและการฉีดพ่นของเหลวสองชนิดได้

ประสิทธิภาพการทำงานสูงและความยืดหยุ่นในการปรับแต่ง: สามารถปรับแต่งได้ด้วยห้องทำความสะอาดสูงสุด 20 ห้อง ทำให้มีกำลังการผลิตสูงสุด 1,000 เวเฟอร์ต่อชั่วโมง (WPH) และรองรับการขยายหน่วยทำความสะอาดขอบเวเฟอร์ได้อย่างยืดหยุ่น

การดำเนินงานต้นทุนต่ำ: ระบบรีไซเคิลสารเคมีในตัวช่วยลดต้นทุนการดำเนินงาน (CoO) ได้อย่างมาก และประหยัดการใช้กรดซัลฟิวริกได้อย่างมีประสิทธิภาพ

ความน่าเชื่อถือ: ระบบขนส่งนี้ผ่านการทดสอบการจัดการเวเฟอร์มาแล้ว 750 ล้านรอบโดยไม่มีข้อผิดพลาดใดๆ ทำให้มั่นใจได้ถึงเสถียรภาพในการผลิตจำนวนมากในระดับสูงมาก

การใช้งาน: ด้วยเทคโนโลยีชั้นนำและประสิทธิภาพที่เสถียร CELLESTA™ -i MD จึงถูกนำไปใช้อย่างแพร่หลายในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง โดยมีบทบาทสำคัญในด้านต่างๆ ดังต่อไปนี้:

ชิปตรรกะ: ให้พื้นผิวเวเฟอร์ที่สะอาดสำหรับการผลิตชิปตรรกะประสิทธิภาพสูง เช่น CPU, GPU และโปรเซสเซอร์ AI

ชิปหน่วยความจำ: ใช้ในการผลิตชิปหน่วยความจำ เช่น DRAM และ 3D NAND Flash เพื่อให้มั่นใจในความแม่นยำและความน่าเชื่อถือของเซลล์หน่วยความจำ

การบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง: ใช้กันอย่างแพร่หลายในขั้นตอนการทำความสะอาดของกระบวนการบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง เช่น BSI (back-illuminated), การเรียงซ้อนแบบ 3 มิติ (3D stacking), การจ่ายไฟจากด้านหลัง (back-powered) และ SoIC (system-on-chip)

การประเมินอุตสาหกรรมและตำแหน่งทางการตลาด

รุ่น -i MD เป็นรุ่นระดับไฮเอนด์ในซีรีส์ CELLESTA ซึ่งแสดงถึงประสิทธิภาพระดับสูงสุดของ TEL ในการทำความสะอาดเวเฟอร์เดี่ยว ด้วยประสิทธิภาพการทำความสะอาดที่เหนือกว่าและความน่าเชื่อถือสูงที่เป็นที่ยอมรับ ซีรีส์แพลตฟอร์มนี้ ร่วมกับ SCREEN จึงครองตำแหน่งผู้นำในตลาดอุปกรณ์ทำความสะอาดเซมิคอนดักเตอร์ระดับโลกอย่างมั่นคง ทำให้เป็นอุปกรณ์ที่ขาดไม่ได้สำหรับการผลิตชิปที่ทันสมัยจำนวนมาก