EN
id
sk
sr
sv
it
pt
bn
ms
be
nl
fr
th
vi
ru
ja
ko
de
hy
az
bs
bg
my
cs
da
dv
el
et
fil
fi
ga
gl
gn
he
hi
km
hr
hu
is
kn
rw
lo
lv
lt
lb
lg
mi
mt
ne
no
ny
or
om
per
pl
ro
sa
so
es
sw
ta
tr
uk
ur
cy
xhSC-810 — це інтегрована повністю автоматична машина для онлайн-очищення напівпровідникових мікросхем, яка використовується для онлайн-прецизійного очищення залишків флюсу та органічних і неорганічних забруднювачів після зварювання напівпровідникових приладів, таких як вивідні рамки, IGBTIMP, I-модулі тощо. Вона підходить для масштабного надточного централізованого очищення мікросхем, враховуючи як ефективність очищення, так і його ефект. Характеристики продукту
1. Система прецизійного онлайн-очищення великомасштабних напівпровідникових корпусів.
2. Метод розпилювального очищення, ефективне видалення флюсу та органічних і неорганічних забруднювачів.
3. Процес хімічного очищення + промивання деіонізованою водою + сушіння гарячим повітрям виконується послідовно.
4. Рідина для очищення додається автоматично; деіонізована вода додається автоматично.
5. Тиск впорскування очищувальної рідини можна регулювати відповідно до різних вимог до очищення.
6. Завдяки великому потоку та високому тиску, очищувальна рідина та деіонізована вода можуть повністю проникнути в мікрощілини пристрою та ретельно очистити його.
7. Оснащений системою моніторингу позитивної швидкості промивання для визначення якості води, що промивається деіонізованою водою.
8. Різання вітровим ножем + наддовга система сушіння з циркуляцією гарячого повітря,
9. Система керування ПЛК, інтерфейс керування китайською/англійською мовами, легке налаштування, зміна, зберігання та виклик програми
10. Корпус, труби та деталі з нержавіючої сталі SUS304, термостійкі, кислотні, лужні та інші миючі рідини.
11. Можна підключити до переднього та заднього обладнання для формування автоматичної лінії очищення.
12. Різні додаткові конфігурації, такі як моніторинг концентрації очищувальної рідини
