Máy làm sạch wafer màn hình SU-3200

SCREEN SU-3200 là một hệ thống làm sạch wafer đơn 300mm mang tính bước ngoặt trong ngành sản xuất bán dẫn. Với hiệu suất vượt trội và công nghệ làm sạch hàng đầu, nó đã là mô hình chủ lực của SCREEN trong một thời gian dài, hỗ trợ sản xuất chip logic và bộ nhớ từ 32nm đến 7nm và thậm chí cả các nút tiên tiến hơn, đóng vai trò quan trọng trong thị trường thiết bị làm sạch.

Định vị cốt lõi và tổng quan công nghệ: Định vị cốt lõi của SU-3200 là tăng đáng kể năng suất làm sạch từng tấm wafer riêng lẻ trong khi vẫn duy trì độ sạch cực cao, đáp ứng các yêu cầu hiệu quả cao của các quy trình tiên tiến.

Thiết kế năng suất cao: Thông qua kiến ​​trúc xếp chồng bốn lớp cải tiến, một hệ thống duy nhất có thể được cấu hình với tối đa 12 buồng xử lý độc lập, đạt công suất xử lý lên đến 800 tấm wafer mỗi giờ (WPH), đây là con số hàng đầu thế giới trong số các hệ thống làm sạch wafer đơn vào thời điểm đó.

Môi trường xử lý siêu sạch: Để đáp ứng các yêu cầu khắt khe của công nghệ 22nm và các công nghệ tiên tiến hơn, SU-3200 được trang bị công nghệ APAC (Advanced Process Atmosphere Control) độc quyền của SCREEN. Bằng cách tối ưu hóa môi trường buồng trên nhiều khía cạnh, công nghệ này đảm bảo độ sạch tối ưu cho quá trình làm sạch.

Thông số kỹ thuật chính: Để đạt được mục tiêu kép về năng suất và độ sạch, SU-3200 sử dụng một loạt các thiết kế cải tiến, được trình bày chi tiết trong bảng dưới đây:

Kích thước công nghệ | Tên công nghệ | Chức năng cốt lõi và phương pháp triển khai

Cải tiến đột phá về công suất | Buồng xử lý nhỏ gọn | Giảm thể tích của một buồng xử lý xuống còn một nửa so với phiên bản trước, cho phép bố trí nhiều buồng hơn trong cùng một không gian, từ đó tăng năng suất trên mỗi đơn vị diện tích.

Hệ thống truyền tải tốc độ cao | Tối ưu hóa logic và tốc độ truyền tải wafer giữa các buồng, một yếu tố hỗ trợ quan trọng để đạt được năng suất cao 800 wafer/giờ (WPH).

Đảm bảo độ sạch | Công nghệ APAC | Công nghệ buồng siêu sạch là thuật ngữ chung cho một loạt các công nghệ. Các công nghệ con cốt lõi của nó bao gồm:

Buồng siêu nhỏ AMC: Giảm thể tích bên trong buồng xuống còn một phần ba so với phiên bản trước, cho phép thay thế khí nhanh hơn và cải thiện hiệu quả độ sạch của môi trường.

Tấm chắn cân bằng luồng khí ABG: Được sử dụng để làm đều luồng khí sạch được thổi xuống từ bộ lọc hạt hiệu suất cao (FFU) phía trên, ngăn ngừa các xoáy hoặc vùng chết bên trong buồng và đảm bảo loại bỏ hiệu quả các hạt bụi.

ASP Advanced Splash Protection: Nhờ thiết kế chính xác, giảm thiểu tối đa hiện tượng bắn tóe hóa chất trong quá trình phun hóa chất, đảm bảo môi trường xử lý wafer sạch sẽ.

Đầu phun bảo vệ bằng khí APN: Sử dụng "màn chắn khí" trong giai đoạn sấy để bảo vệ bề mặt wafer và ngăn ngừa các vết ố nước do cặn bay hơi chất lỏng gây ra.

Cung cấp hóa chất linh hoạt: Các nguồn hóa chất có thể được bố trí linh hoạt. Cả hệ thống phun trực tiếp động (DDI) và hệ thống dạng tủ đều có sẵn, cho phép khách hàng lựa chọn linh hoạt theo yêu cầu cụ thể của quy trình.

Dễ bảo trì: Cấu trúc kéo ra: Buồng xử lý có thể được kéo ra như một ngăn kéo để dễ dàng vệ sinh, thay thế linh kiện và các công việc bảo trì khác, giúp giảm thiểu thời gian ngừng hoạt động của thiết bị. Lĩnh vực ứng dụng: Từ nghiên cứu và phát triển tiên tiến đến sản xuất quy mô lớn.

SU-3200 có phạm vi ứng dụng rộng, bao gồm nhiều giai đoạn quan trọng trong sản xuất chất bán dẫn.

Chip logic và bộ nhớ tiên tiến: SU-3200 được sử dụng trong nghiên cứu và phát triển cũng như sản xuất chip, bao gồm cả các công nghệ 7nm và các công nghệ tiên tiến hơn, trong cả quy trình sản xuất phía trước (FEOL) và phía sau (BEOL).

Các vật liệu và quy trình bán dẫn chính: Trong số nhiều quy trình mà nó hỗ trợ, có quy trình làm sạch các vật liệu bán dẫn thế hệ thứ ba như SiC (Silicon Carbide) và GaN (Gallium Nitride).

Nghiên cứu tiên tiến và hợp tác hệ sinh thái: Hiệu năng mạnh mẽ của SU-3200 khiến nó trở thành sự lựa chọn của các viện nghiên cứu và phát triển hàng đầu trên toàn thế giới. Ví dụ, IBM đã triển khai SU-3200 tại trung tâm nghiên cứu bán dẫn của mình ở Albany, New York. Hơn nữa, SCREEN đã hợp tác với Applied Materials, lắp đặt SU-3200 tại Trung tâm META của họ để phát triển các quy trình sản xuất chip tiên tiến hơn.

Vị thế thị trường và những đóng góp trong quá khứ

SU-3200 không chỉ là một sản phẩm thành công mà còn là yếu tố then chốt giúp SCREEN khẳng định vị thế dẫn đầu thị trường.

Thống lĩnh thị trường: Sau thành công của SU-3200, SCREEN tiếp tục củng cố vị thế dẫn đầu trong lĩnh vực thiết bị làm sạch. Theo dữ liệu chính thức của SCREEN, tính đến tháng 7 năm 2025, tổng số lượng thiết bị làm sạch bán dẫn mà hãng đã xuất xưởng đã vượt quá 15.000 chiếc, nắm giữ thị phần số một toàn cầu ở nhiều phân khúc, bao gồm làm sạch từng tấm wafer riêng lẻ, làm sạch theo lô và làm sạch bằng ly tâm.

Trụ cột doanh thu: Trong một thời gian dài, SU-3200 là sản phẩm chủ lực của SCREEN, và doanh thu mảng thiết bị vệ sinh của hãng phụ thuộc rất nhiều vào mẫu sản phẩm này.