Плазменны ачышчальнік Nordson MARCH AP-300

Nordson MARCH AP-300 — гэта кампактная, эканамічна эфектыўная настольная вакуумная плазменная сістэма. Яе асноўная перавага заключаецца ў інтэграцыі радыёчастотнай крыніцы харчавання 13,56 МГц і сеткі аўтаматычнага ўзгаднення імпедансу, што дазваляе ёй забяспечваць выключныя, стабільныя і аднастайныя вынікі плазменнай апрацоўкі ў кампактных памерах.

**Прынцып працы**

AP-300 працуе з выкарыстаннем вакуумнага помпы для адпампоўкі камеры да высокага вакууму, пасля чаго ўводзяцца спецыяльныя тэхналагічныя газы. Пры ўжыванні радыёчастотнай энергіі 13,56 МГц газ іянізуецца з утварэннем плазмы. Высокаэнергетычныя часціцы і рэактыўныя рэчывы ў плазме ўступаюць у фізічную бамбардзіроўку або хімічныя рэакцыі з паверхняй матэрыялу, тым самым дасягаючы ачысткі, актывацыі або травлення паверхні.

**Асноўныя функцыі і праграмы**

Асноўная функцыя AP-300 — забеспячэнне стабільнага і кіраванага плазменнага асяроддзя. У першую чаргу, ён аптымізуе якасць і надзейнасць канчатковых прадуктаў з дапамогай трох ключавых механізмаў:

**Катэгорыя функцыі** | **Метад рэалізацыі і эфект**

**Плазменная ачыстка** | Выдаляе арганічныя забруджванні і аксіды з паверхняў матэрыялаў, дасягаючы чысціні на атамным узроўні.

**Актывацыя паверхні** | Уводзіць на паверхню матэрыялу палярныя функцыянальныя групы, такія як гідраксільныя і карбаксільныя групы, тым самым павялічваючы павярхоўную энергію і змочвальнасць для паляпшэння адгезіі з іншымі матэрыяламі.

**Травленне / Выдаленне накіпу** | Выкарыстоўвае фторзмяшчальныя тэхналагічныя газы (напрыклад, CF₄) для выканання дакладнага анізатропнага або ізатропнага травлення ў мікранным або нават нанаметровым маштабе; здольна выдаляць рэшткі фотарэзісту з пласцін.

**Асноўныя перавагі і асаблівасці**

Дызайн AP-300 забяспечвае выдатны баланс паміж прадукцыйнасцю і гнуткасцю ў кампактнай прасторы. Яго асноўныя характарыстыкі апісаны ніжэй:

**Катэгорыя** | **Асноўная функцыя** | **Канкрэтнае апісанне**

**Перавагі** | **Высокая аднастайнасць і паўтаральнасць** | РЧ-генератар 13,56 МГц у спалучэнні з сеткай аўтаматычнага ўзгаднення імпедансу забяспечвае беспрэцэдэнтную паўтаральнасць вынікаў працэсу.

**Простае і надзейнае кіраванне** | Аснашчаны сістэмай кіравання на аснове ПЛК з сэнсарным экранам, якая прапануе інтуітыўна зразумелы графічны інтэрфейс і маніторынг працэсаў у рэжыме рэальнага часу; трывалая суцэльнаметалічная канструкцыя гарантуе доўгатэрміновую стабільнасць.

**Гнуткасць і пашыральнасць** | Падтрымлівае да чатырох газавых ліній, задавальняючы патрабаванні працэсу для такіх газаў, як O₂, Ar, H₂, He і CF₄. **Эканамічна эфектыўны** | Забяспечвае выключную прадукцыйнасць і гнуткасць пры нізкай цане, што робіць яго ідэальным выбарам для даследаванняў і распрацовак і дробнамаштабнай пілотнай вытворчасці.

**Асноўныя характарыстыкі** | **Кампактны дызайн працоўнага стала** | Цалкам аўтаномны; патрабуе толькі падлучэння да знешняга вакуумнага помпы і лёгка змяшчаецца на стандартным лабараторным стале або варштаце.

**Гнуткая канфігурацыя камеры** | Камера выраблена з трывалага алюмінію і змяшчае да 7 здымных рэгуляваных паддонаў для электродаў.

**Падтрымлівае некалькі рэжымаў працэсу** | Падтрымлівае як рэжымы прамой плазмы (у асноўным фізічная бамбардзіроўка), так і рэжымы плазмы пасля патоку (у асноўным хімічныя радыкалы), што забяспечвае гнуткасць для задавальнення розных патрабаванняў працэсу.

**Падрабязныя характарыстыкі**

**Катэгорыя параметраў** | **Канкрэтныя характарыстыкі**

**Габарытныя памеры (ШхГхВ)** | 569 × 869 × 704 мм

**Чыстая вага** | 221 кг (487 фунтаў)

**Аб'ём камеры** | 33,1 літра

**Колькасць электродаў** | Да 7

**Адлегласць паміж электродамі** | 25,4 мм (1 цаля)

**Стандартная магутнасць радыёчастот** | 300 Вт пры 13,56 МГц

**Кіраванне патокам газу (MFC)** | 2 уключаны ў стандартную камплектацыю; можна пашырыць да 4

**Сумяшчальныя газы** | Ar, O₂, H₂, He, CF₄ і г.д.

**Шырокія сферы прымянення**

AP-300 мае шырокі спектр прымянення, адыгрываючы ключавую ролю, асабліва ў наступных ключавых прамысловых сектарах:

**Паўправаднікі і мікраэлектроніка**: Шырока выкарыстоўваюцца для актывацыйнай ачысткі перад злучэннем крышталяў, злучэннем правадоў і запаўненнем крышталяў пры перагортванні крышталяў; а таксама для зачысткі рэзістаў пасля літаграфіі і плазменнай апрацоўкі перад упакоўкай пласцін.

**Друкаваныя платы і электронныя зборкі**: Эфектыўна выдаляе забруджванні, такія як рэшткі флюсу, і паляпшае змочвальнасць паверхні перад такімі працэсамі, як канформнае пакрыццё і запаўненне паверхні.

**Медыцына і біялагічныя навукі:** Забяспечвае надзейную ачыстку ў працэсах склейвання і вырабу складаных структур, такіх як мікрафлюідныя чыпы.

**Рэзюмэ**

Карацей кажучы, Nordson MARCH AP-300 — гэта настольная плазменная сістэма, якая выдатна спалучае ў сабе дакладнасць даследчага ўзроўню, надзейнасць прамысловага ўзроўню і зручнасць эксплуатацыі. Яе асноўная каштоўнасць заключаецца ў тым, што яна мае магутныя магчымасці ў кампактным памеры, што робіць яе ідэальным выбарам як для даследаванняў і распрацовак, так і для дробнасерыйнай вытворчасці ў паўправадніковай, мікраэлектроннай і медыцынскай галінах.