EO halvledarlaser EF20P-QSF

EO (EdgeWave) laser EF20P-QSF funktion och principdetaljer

EO EF20P-QSF är en högeffekts nanosekunds Q-switchad laser med hög upprepningshastighet som använder halvledarpumpad solid-state laser (DPSS) teknologi och är lämplig för precisionsbearbetning, lasermärkning, LIBS (laserinducerad nedbrytningsspektroskopi) och vetenskapliga forskningsapplikationer.

1. Kärnfunktioner

(1) Hög effekt och hög pulsenergi

Medeleffekt: 20 W (@1064 nm).

Enkelpulsenergi: upp till 1 mJ (beroende på repetitionsfrekvensen).

Upprepningshastighet: 1–200 kHz (justerbar), för att möta olika bearbetningskrav.

(2) Utmärkt strålkvalitet

M² < 1,3 (nära diffraktionsgränsen), lämplig för fin mikrobearbetning.

Gaussisk stråle, liten fokuspunkt, hög energitäthet.

(3) Flexibel pulskontroll

Justerbar pulsbredd: 10–50 ns (typiskt värde), för att optimera bearbetningseffekten av olika material.

Extern trigger: stöder TTL/PWM-modulering, kompatibel med automationssystem.

(4) Tillförlitlighet av industriell kvalitet

Helsolid-state design (lampfri pumpning), livslängd >20 000 timmar.

Luftkylning/vattenkylning tillval, anpassa till olika arbetsmiljöer.

2. Arbetsprincip

EF20P-QSF är baserad på Q-switched DPSS-laserteknologi, och kärnprocessen är som följer:

(1) Halvledarpumpning (LD-pumpning)

Laserdiod (LD) pumpar Nd:YVO₄ eller Nd:YAG kristall för att excitera sällsynta jordartsmetalljoner (Nd³⁺) till metastabila energinivåer.

(2) Q-switchad pulsgenerering

Akusto-optisk Q-switch (AO Q-Switch) eller elektro-optisk Q-switch (EO Q-Switch) växlar snabbt Q-värdet i resonanshålrummet och släpper ut högeffekts nanosekundpulser efter att ha ackumulerat energi.

(3) Våglängdsomvandling (valfritt)

Synkron frekvensgenerering (SHG) och trippelfrekvensgenerering (THG) utförs genom icke-linjära kristaller (som LBO, KTP), och utsignalen är 532 nm (grönt ljus) eller 355 nm (ultraviolett ljus).

(4) Strålformning och utmatning

Utgången optimeras av en strålexpanderare/fokuseringslins för att säkerställa hög energitäthet och bearbetningsnoggrannhet.

3. Typiska tillämpningar

(1) Precisionsbearbetning

Skärning av spröda material (glas, safir, keramik).

Mikroborrning (PCB, bränsleinjektor, elektroniska komponenter).

(2) Lasermärkning

Metallmärkning med hög kontrast (rostfritt stål, aluminiumlegering).

Plast/keramisk gravyr (ingen termisk skada).

(3) Vetenskaplig forskning och testning

LIBS (elementaranalys): excitationsplasma med hög pulsenergi.

Laserradar (LIDAR): Atmosfärisk detektering, avståndsavstånd.

(4) Medicin och skönhet

Hudbehandling (borttagning av pigmentering, borttagning av tatueringar).

Dental hårdvävnadsbehandling (precisionsablation).

4. Tekniska parametrar (typiska värden)

Parametrar EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

Våglängd 1064 nm 532 nm (dubbel frekvens)

Medeleffekt 20 W 10 W

Enkelpulsenergi 1 mJ (@20 kHz) 0,5 mJ (@20 kHz)

Upprepningshastighet 1–200 kHz 1–200 kHz

Pulsbredd 10–50 ns 8–30 ns

Strålkvalitet (M²) <1,3 <1,5

Kylmetod Luftkylning/vattenkylning Luftkylning/vattenkylning

5. Jämförelse av konkurrerande produkter (EF20P-QSF vs. fiber/CO₂-laser)

Har EF20P-QSF (DPSS) Fiberlaser CO₂-laser

Våglängd 1064/532/355 nm 1060–1080 nm 10,6 μm

Pulsenergi Hög (mJ nivå) Lägre (µJ–mJ) Hög (men med stor termisk påverkan)

Strålkvalitet M² <1,3 M² <1,1 M² ~1,2–2

Tillämpliga material Metall/icke-metall Metallbaserad Icke-metall (plast/organisk)

Underhållskrav Låg (ingen lamppumpning) Mycket låg Behöver justera gas/lins

6. Fördelar sammanfattning

Hög pulsenergi: lämplig för bearbetning med hög slagkraft (borrning, LIBS).

Utmärkt strålkvalitet: precisionsmikrobearbetning (M²<1,3).

Stabilitet av industriell kvalitet: helsolid-state design, lång livslängd, underhållsfri.

Flera våglängder tillgängliga: 1064 nm/532 nm/355 nm, lämplig för olika material.

Tillämpliga industrier: elektronisk tillverkning, vetenskapliga forskningsexperiment, medicinsk skönhet, flyg, etc.