EO সলিড-স্টেট লেজার EF20P-QSF

EO (EdgeWave) লেজার EF20P-QSF ফাংশন এবং নীতির বিবরণ

EO EF20P-QSF হল একটি উচ্চ-ক্ষমতাসম্পন্ন, উচ্চ-পুনরাবৃত্তি-হারের ন্যানোসেকেন্ড Q-সুইচড লেজার যা সেমিকন্ডাক্টর-পাম্পড সলিড-স্টেট লেজার (DPSS) প্রযুক্তি ব্যবহার করে এবং নির্ভুল যন্ত্র, লেজার মার্কিং, LIBS (লেজার-প্ররোচিত ব্রেকডাউন স্পেকট্রোস্কোপি) এবং বৈজ্ঞানিক গবেষণা অ্যাপ্লিকেশনের জন্য উপযুক্ত।

১. মূল ফাংশন

(১) উচ্চ শক্তি এবং উচ্চ পালস শক্তি

গড় শক্তি: ২০ ওয়াট (@১০৬৪ এনএম)।

একক পালস শক্তি: 1 mJ পর্যন্ত (পুনরাবৃত্তির হারের উপর নির্ভর করে)।

পুনরাবৃত্তির হার: 1–200 kHz (সামঞ্জস্যযোগ্য), বিভিন্ন প্রক্রিয়াকরণের প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে।

(2) চমৎকার রশ্মির গুণমান

M² < 1.3 (বিবর্তন সীমার কাছাকাছি), সূক্ষ্ম মাইক্রোমেশিনের জন্য উপযুক্ত।

গাউসিয়ান রশ্মি, ছোট ফোকাস স্পট, উচ্চ শক্তি ঘনত্ব।

(3) নমনীয় পালস নিয়ন্ত্রণ

বিভিন্ন উপকরণের প্রক্রিয়াকরণ প্রভাবকে সর্বোত্তম করার জন্য, সামঞ্জস্যযোগ্য পালস প্রস্থ: 10-50 ns (সাধারণ মান)।

বাহ্যিক ট্রিগার: TTL/PWM মড্যুলেশন সমর্থন করে, অটোমেশন সিস্টেমের সাথে সামঞ্জস্যপূর্ণ।

(৪) শিল্প-গ্রেড নির্ভরযোগ্যতা

সম্পূর্ণ সলিড-স্টেট ডিজাইন (ল্যাম্প-মুক্ত পাম্পিং), আয়ুষ্কাল > ২০,০০০ ঘন্টা।

এয়ার কুলিং/ওয়াটার কুলিং ঐচ্ছিক, বিভিন্ন কাজের পরিবেশের সাথে খাপ খাইয়ে নিন।

2. কাজের নীতি

EF20P-QSF Q-সুইচড DPSS লেজার প্রযুক্তির উপর ভিত্তি করে তৈরি, এবং মূল প্রক্রিয়াটি নিম্নরূপ:

(১) সেমিকন্ডাক্টর পাম্পিং (এলডি পাম্পিং)

লেজার ডায়োড (LD) বিরল পৃথিবীর আয়নগুলিকে (Nd³⁺) মেটাস্টেবল শক্তি স্তরে উত্তেজিত করার জন্য Nd:YVO₄ বা Nd:YAG স্ফটিক পাম্প করে।

(২) Q-সুইচড পালস জেনারেশন

অ্যাকোস্টো-অপটিক কিউ-সুইচিং (AO Q-সুইচ) বা ইলেক্ট্রো-অপটিক কিউ-সুইচিং (EO Q-সুইচ) দ্রুত অনুরণিত গহ্বরের কিউ মান পরিবর্তন করে এবং শক্তি সঞ্চয়ের পর উচ্চ-শক্তির ন্যানোসেকেন্ড পালস নির্গত করে।

(৩) তরঙ্গদৈর্ঘ্য রূপান্তর (ঐচ্ছিক)

সিঙ্ক্রোনাস ফ্রিকোয়েন্সি জেনারেশন (SHG) এবং ট্রিপল ফ্রিকোয়েন্সি জেনারেশন (THG) অরৈখিক স্ফটিকের (যেমন LBO, KTP) মাধ্যমে সঞ্চালিত হয় এবং আউটপুট 532 nm (সবুজ আলো) বা 355 nm (অতিবেগুনী আলো) হয়।

(৪) বিম শেপিং এবং আউটপুট

উচ্চ শক্তি ঘনত্ব এবং প্রক্রিয়াকরণের নির্ভুলতা নিশ্চিত করার জন্য একটি বিম এক্সপ্যান্ডার/ফোকাসিং লেন্স দ্বারা আউটপুট অপ্টিমাইজ করা হয়।

3. সাধারণ অ্যাপ্লিকেশন

(1) যথার্থ যন্ত্র

ভঙ্গুর উপকরণ (কাচ, নীলকান্তমণি, সিরামিক) কাটা।

মাইক্রো ড্রিলিং (পিসিবি, ফুয়েল ইনজেক্টর, ইলেকট্রনিক উপাদান)।

(২) লেজার মার্কিং

উচ্চ বৈসাদৃশ্য ধাতু চিহ্নিতকরণ (স্টেইনলেস স্টিল, অ্যালুমিনিয়াম খাদ)।

প্লাস্টিক/সিরামিক খোদাই (কোনও তাপীয় ক্ষতি নেই)।

(৩) বৈজ্ঞানিক গবেষণা এবং পরীক্ষা

LIBS (মৌলিক বিশ্লেষণ): উচ্চ পালস শক্তি উত্তেজনা প্লাজমা।

লেজার রাডার (LIDAR): বায়ুমণ্ডলীয় সনাক্তকরণ, রেঞ্জিং।

(৪) চিকিৎসা এবং সৌন্দর্য

ত্বকের চিকিৎসা (রঞ্জকতা অপসারণ, ট্যাটু অপসারণ)।

দাঁতের শক্ত টিস্যু চিকিৎসা (নির্ভুল অপসারণ)।

৪. প্রযুক্তিগত পরামিতি (সাধারণ মান)

পরামিতি EF20P-QSF (1064 nm) EF20P-QSF (532 nm)

তরঙ্গদৈর্ঘ্য ১০৬৪ এনএম ৫৩২ এনএম (দ্বিগুণ ফ্রিকোয়েন্সি)

গড় শক্তি 20 ওয়াট 10 ওয়াট

একক পালস শক্তি 1 mJ (@20 kHz) 0.5 mJ (@20 kHz)

পুনরাবৃত্তির হার ১–২০০ kHz ১–২০০ kHz

পালস প্রস্থ ১০–৫০ এনএস ৮–৩০ এনএস

রশ্মির মান (M²) <1.3 <1.5

শীতলকরণ পদ্ধতি এয়ার কুলিং/ওয়াটার কুলিং এয়ার কুলিং/ওয়াটার কুলিং

৫. প্রতিযোগী পণ্যের তুলনা (EF20P-QSF বনাম ফাইবার/CO₂ লেজার)

বৈশিষ্ট্য EF20P-QSF (DPSS) ফাইবার লেজার CO₂ লেজার

তরঙ্গদৈর্ঘ্য ১০৬৪/৫৩২/৩৫৫ এনএম ১০৬০–১০৮০ এনএম ১০.৬ মাইক্রোমিটার

পালস শক্তি উচ্চ (mJ স্তর) নিম্ন (µJ–mJ) উচ্চ (কিন্তু উচ্চ তাপীয় প্রভাব সহ)

রশ্মির মান M² <1.3 M² <1.1 M² ~1.2–2

প্রযোজ্য উপকরণ ধাতু/অধাতু ধাতু-ভিত্তিক অধাতু (প্লাস্টিক/জৈব)

রক্ষণাবেক্ষণের প্রয়োজনীয়তা কম (বাতি পাম্পিং নেই) খুব কম গ্যাস/লেন্স সামঞ্জস্য করার প্রয়োজন

৬. সুবিধার সারাংশ

উচ্চ পালস শক্তি: উচ্চ প্রভাব প্রক্রিয়াকরণের জন্য উপযুক্ত (ড্রিলিং, LIBS)।

চমৎকার রশ্মির গুণমান: নির্ভুল মাইক্রোমেশিনিং (M²<1.3)।

শিল্প-গ্রেড স্থিতিশীলতা: সম্পূর্ণ-সলিড-স্টেট নকশা, দীর্ঘ জীবনকাল, রক্ষণাবেক্ষণ-মুক্ত।

একাধিক তরঙ্গদৈর্ঘ্য উপলব্ধ: 1064 nm/532 nm/355 nm, বিভিন্ন উপকরণের জন্য উপযুক্ত।

প্রযোজ্য শিল্প: ইলেকট্রনিক উৎপাদন, বৈজ্ঞানিক গবেষণা পরীক্ষা, চিকিৎসা সৌন্দর্য, মহাকাশ ইত্যাদি।