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SCREEN SU-3200은 반도체 제조 산업에서 획기적인 300mm 단일 웨이퍼 세척 시스템입니다. 탁월한 처리량과 선도적인 청정 기술을 바탕으로 SCREEN의 주력 모델로서 오랫동안 자리매김하며 32nm부터 7nm, 그리고 더욱 발전된 노드에 이르는 로직 및 메모리 칩 제조를 지원하며 세척 장비 시장에서 중요한 역할을 수행해 왔습니다.
핵심 포지셔닝 및 기술 개요: SU-3200의 핵심 포지셔닝은 매우 높은 청정도를 유지하면서 단일 웨이퍼 세척 처리량을 크게 향상시켜 첨단 공정의 극한 효율성 요구 사항을 충족하는 것입니다.
고효율 설계: 혁신적인 4층 적층 구조를 통해 단일 시스템에 최대 12개의 독립적인 공정 챔버를 구성할 수 있어 시간당 최대 800개의 웨이퍼(WPH)를 처리할 수 있으며, 이는 당시 단일 웨이퍼 세척 시스템 중 세계 최고 수준이었습니다.
초청정 공정 환경: 22nm 및 그 이상의 첨단 노드의 엄격한 요구 사항을 충족하기 위해 SU-3200에는 SCREEN의 독자적인 APAC(Advanced Process Atmosphere Control) 기술이 탑재되어 있습니다. 이 기술은 챔버 환경을 다각적으로 최적화하여 세척 공정의 최상의 청결도를 보장합니다.
주요 기술 사양: SU-3200은 처리량과 청정도라는 두 가지 목표를 달성하기 위해 아래 표에 자세히 설명된 일련의 혁신적인 설계를 채택했습니다.
기술 차원 | 기술명 | 핵심 기능 및 구현 방법
획기적인 용량 향상 | 소형 챔버 | 단일 공정 챔버의 부피를 이전 모델의 절반으로 줄여 동일 공간에 더 많은 챔버를 설치할 수 있으므로 단위 면적당 처리량을 증가시킵니다.
고속 이송 시스템 | 챔버 간 웨이퍼 이송 로직 및 속도를 최적화하여 시간당 800웨이퍼(WPH)의 높은 처리량을 달성하는 데 핵심적인 역할을 합니다.
청결도 보증 | APAC 기술 | 초청정 챔버 기술은 일련의 기술을 총칭하는 용어입니다. 핵심 하위 기술은 다음과 같습니다.
AMC 마이크로 챔버: 챔버 내부 용량을 기존 제품의 3분의 1로 줄여 가스 교체 속도를 높이고 환경 청결도를 효과적으로 개선했습니다.
ABG 공기 흐름 균형 조절 배플: 상단 고효율 미립자 필터(FFU)에서 불어오는 깨끗한 공기 흐름을 고르게 하여 챔버 내부에 와류나 사각지대가 생기는 것을 방지하고 미립자 물질을 효과적으로 제거하는 데 사용됩니다.
ASP 고급 비산 방지 기술: 정밀한 설계를 통해 화학 약품 분사 시 화학 물질 비산을 최소화하여 깨끗한 웨이퍼 처리 환경을 보장합니다.
APN 공기 보호 노즐: 건조 단계에서 "공기 커튼"을 활용하여 웨이퍼 표면을 보호하고 액체 증발 잔류물로 인한 물 얼룩을 방지합니다.
유연한 화학물질 공급: 화학물질 공급원을 유연하게 구성할 수 있습니다. 동적 직접 주입(DDI) 시스템과 캐비닛형 시스템 모두 이용 가능하므로 고객은 특정 공정 요구 사항에 따라 유연하게 선택할 수 있습니다.
손쉬운 유지보수: 서랍식 구조: 공정 챔버를 서랍처럼 당겨 빼낼 수 있어 청소, 부품 교체 및 기타 유지보수 작업이 용이하며, 장비 가동 중지 시간을 효과적으로 줄여줍니다. 적용 분야: 최첨단 연구 개발부터 성숙한 제조 공정까지
SU-3200은 반도체 제조의 여러 핵심 단계를 아우르는 광범위한 응용 분야를 가지고 있습니다.
첨단 로직 및 메모리 칩: SU-3200은 프런트엔드(FEOL) 및 백엔드(BEOL) 공정 모두에서 7nm 및 그 이상의 첨단 노드를 포함한 칩의 연구 개발 및 생산에 사용됩니다.
주요 반도체 재료 및 공정: 이 장비는 SiC(탄화규소) 및 GaN(질화갈륨)과 같은 3세대 반도체 재료의 세척을 비롯한 다양한 공정을 지원합니다.
최첨단 연구 및 생태계 협력: SU-3200의 강력한 성능은 전 세계 유수의 연구 개발 기관들이 선택하는 이유입니다. 예를 들어, IBM은 뉴욕주 올버니에 있는 반도체 연구 센터에 SU-3200을 도입했습니다. 또한, SCREEN은 Applied Materials와 협력하여 더욱 발전된 칩 공정 개발을 위한 META 센터에 SU-3200을 설치했습니다.
시장 지위 및 역사적 기여도
SU-3200은 성공적인 제품일 뿐만 아니라 SCREEN이 시장 선도적 지위를 확립하는 데 핵심적인 역할을 했습니다.
시장 지배력: SCREEN은 SU-3200의 성공에 힘입어 세척 장비 분야에서 선도적인 입지를 더욱 공고히 했습니다. SCREEN의 공식 자료에 따르면, 2025년 7월 기준 반도체 세척 장비 누적 출하량은 15,000대를 돌파했으며, 단일 웨이퍼 세척, 배치 세척, 스핀 세척 등 여러 부문에서 세계 시장 점유율 1위를 차지하고 있습니다.
수익의 핵심: 오랫동안 SU-3200은 SCREEN의 주력 제품이었으며, 청소 장비 사업의 수익은 이 모델에 크게 의존했습니다.
