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SCREEN wafer cleaner SU-3200

Nettoyeur de plaquettes SCREEN SU-3200

Le SCREEN SU-3200 est un système de nettoyage de plaquettes uniques de 300 mm qui a marqué l'industrie de la fabrication des semi-conducteurs.

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SCREEN Single Wafer Cleaner SU-3200Le SCREEN SU-3200 est un système de nettoyage de plaquettes uniques de 300 mm qui a fait date dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Grâce à son débit supérieur et à sa technologie de nettoyage de pointe, il a longtemps constitué le modèle phare de SCREEN, prenant en charge la fabrication de puces logiques et mémoires de 32 nm à 7 nm et même à des nœuds plus avancés, et jouant un rôle crucial sur le marché des équipements de nettoyage.

Positionnement principal et aperçu technologique : Le positionnement principal du SU-3200 est d'augmenter considérablement le débit du nettoyage de plaquettes individuelles tout en maintenant une propreté extrêmement élevée, répondant aux exigences d'efficacité extrêmes des processus avancés.

Conception à haut débit : Grâce à une architecture empilée innovante à quatre couches, un seul système peut être configuré avec jusqu'à 12 chambres de traitement indépendantes, atteignant une capacité de traitement allant jusqu'à 800 plaquettes par heure (WPH), ce qui était à l'époque un leader mondial parmi les systèmes de nettoyage de plaquettes individuelles.

Environnement de traitement ultra-propre : Afin de répondre aux exigences rigoureuses des nœuds technologiques de 22 nm et plus avancés, le SU-3200 est équipé de la technologie APAC (Advanced Process Atmosphere Control) exclusive de SCREEN. En optimisant l’environnement de la chambre selon de multiples dimensions, il garantit une propreté optimale du processus de nettoyage.

Caractéristiques techniques clés : Pour atteindre le double objectif de débit et de propreté, le SU-3200 utilise une série de conceptions innovantes, détaillées dans le tableau ci-dessous :

Dimension technologique | Nom de la technologie | Fonction principale et méthode de mise en œuvre

Amélioration révolutionnaire de la capacité | Chambre compacte | Réduit de moitié le volume d'une chambre de traitement unique par rapport à son prédécesseur, permettant ainsi de déployer davantage de chambres dans le même espace et d'augmenter le débit par unité de surface.

Système de transfert à grande vitesse | Optimise la logique et la vitesse de transfert des plaquettes entre les chambres, un support clé pour atteindre un débit élevé de 800 plaquettes/heure (WPH).

Assurance propreté | Technologie APAC | La technologie des chambres ultra-propres est un terme générique désignant un ensemble de technologies. Ses principales sous-technologies comprennent :

Micro-chambre AMC : Réduction du volume interne de la chambre à un tiers de celui de son prédécesseur, permettant un remplacement plus rapide des gaz et améliorant efficacement la propreté environnementale.

Déflecteur d'équilibrage du flux d'air ABG : utilisé pour uniformiser le flux d'air propre soufflé par le filtre à particules haute efficacité supérieur (FFU), empêchant les tourbillons ou les zones mortes dans la chambre et assurant une élimination efficace des particules.

Protection avancée contre les éclaboussures ASP : grâce à une conception précise, minimisant les éclaboussures de produits chimiques lors de la pulvérisation, garantissant un environnement de traitement des plaquettes propre.

Buse de protection d'air APN : Utilisation d'un « rideau d'air » pendant la phase de séchage pour protéger la surface de la plaquette et éviter les taches d'eau causées par les résidus d'évaporation de liquide.

Approvisionnement flexible en produits chimiques : les sources de produits chimiques peuvent être agencées de manière flexible. Les systèmes d’injection directe dynamique (DDI) et les systèmes de type armoire sont disponibles, permettant aux clients de choisir la solution la plus adaptée à leurs exigences de procédé spécifiques.

Facilité d'entretien : Structure extractible : La chambre de traitement peut être extraite comme un tiroir pour faciliter le nettoyage, le remplacement des composants et autres opérations de maintenance, réduisant ainsi efficacement les temps d'arrêt des équipements. Domaines d'application : De la R&D de pointe à la production industrielle mature

Le SU-3200 possède un large éventail d'applications, couvrant plusieurs étapes clés de la fabrication des semi-conducteurs.

Puces logiques et mémoires avancées : Le SU-3200 est utilisé dans la R&D et la production de puces, y compris les nœuds 7 nm et plus avancés, dans les processus frontaux (FEOL) et arrière (BEOL).

Matériaux et procédés semi-conducteurs clés : Parmi les nombreux procédés qu’elle prend en charge figure le nettoyage des matériaux semi-conducteurs de troisième génération tels que le SiC (carbure de silicium) et le GaN (nitrure de gallium).

Recherche de pointe et collaboration au sein de l'écosystème : les performances exceptionnelles du SU-3200 en font le choix privilégié des plus grands instituts de R&D au monde. Par exemple, IBM l'a déployé dans son centre de recherche sur les semi-conducteurs d'Albany, dans l'État de New York. De plus, SCREEN s'est associé à Applied Materials et a installé le SU-3200 dans son centre META afin de développer des procédés de fabrication de puces plus avancés.

Position sur le marché et contributions historiques

Le SU-3200 n'est pas seulement un produit à succès, mais aussi un facteur clé dans l'établissement de la position de leader de SCREEN sur le marché.

Domination du marché : Fort du succès du SU-3200, SCREEN a consolidé sa position de leader sur le marché des équipements de nettoyage. Selon les données officielles de SCREEN, en juillet 2025, ses livraisons cumulées d’équipements de nettoyage de semi-conducteurs dépassaient 15 000 unités, lui conférant la première place mondiale sur plusieurs segments, notamment le nettoyage de plaquettes individuelles, le nettoyage par lots et le nettoyage par centrifugation.

Pilier des revenus : Pendant longtemps, le SU-3200 a été le produit phare de SCREEN, et les revenus de son activité d'équipements de nettoyage dépendaient fortement de ce modèle.

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