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半導体ウェハー研削ソリューション

半導体ウェハーの薄化および裏面研削のためのウェハー研削ソリューション

ウェハーの薄化、裏面研削、TTV制御、精密研削、表面品質向上、先進的なパッケージング、MEMSウェハー、パワーデバイス、化合物半導体プロセスなどに対応する、信頼性の高いウェハー研削システム。

4”–12” ウェハーサポート
Si / SiC / GaN 素材オプション
中古品および再生品 コスト削減サプライ
Wafer Grinder for Semiconductor Wafer Thinning
TTVコントロール 下流工程における安定したウェーハ厚さ均一性
背中を研磨する 包装前に裏面材料を制御された方法で除去する。
プロセス上の課題

ウェーハ薄化の安定性を向上させ、研削リスクを低減する

ウェハー研削には、安定した装置、適切なプロセス構成、そして信頼性の高い処理性能が不可欠です。適切なウェハー研削機を使用することで、厚みの均一性を向上させ、裏面損傷を低減し、ウェハー破損リスクを抑制し、高度なパッケージング準備を支援することができます。

01

厚みの均一性が低い

安定した研削装置は、TTV制御を改善し、ウェーハの厚さの不均一性を低減するのに役立ちます。

02

薄化加工中のウェーハ破損

信頼性の高いチャッキング、ハンドリング、およびプロセスの安定性により、研削中の薄いウェーハを保護することができます。

03

裏面の損傷と微細なひび割れ

精密な研削と適切な加工工程の組み合わせは、応力、研削痕、および微細亀裂を軽減するのに役立ちます。

04

高額な設備投資

中古および再生品のウェハーグラインダーは、プロジェクトコストを削減するための実用的な選択肢となる。

機器のマッチング

プロセス要件に基づいたウェハーグラインダーの選定

当社は、ウェーハのサイズ、材料の種類、目標厚さ、TTV要件、表面品質、処理能力、自動化レベル、および利用可能な予算に応じて、最適なウェーハ研削システムを選定するお手伝いをいたします。

ご要望についてご相談ください
ウェハー薄化用

ダイシング、ボンディング、またはパッケージングの前に、安定した厚み低減を実現する自動ウェハーグラインダー。

微粉砕用

裏面損傷、傷、およびウェーハ応力の低減に重点を置いた研削ソリューション。

複合ウェハー用

SiC、GaN、GaAs、サファイア、その他の硬質ウェハ材料に対応した装置オプション。

より少ない投資で

研究所、製造工場、コスト重視の生産ライン向けの、中古および再生品のウェハー研削システム。

利用可能な機器

ウェハーグラインダーの製品タイプ

お客様のウェーハ製造プロセスと生産ニーズに合わせて、自動ウェーハ研削機、バックグラインダー、微粉砕システム、再生ウェーハ研削装置からお選びください。

ウェーハ研削工程

バックグラインディングから薄型ウェハーの準備まで

適切なウェーハ研削機は、裏面材料の除去から精密研削、最終的な厚さの確認まで、各工程をサポートします。

01

ウェハーマウント

ウェーハは研削前にテープに貼り付けるか、チャックに固定される。

02

粗挽き

裏面の材料を素早く除去し、目標の厚さに近づける。

03

微粉砕

精密研磨は表面品質を向上させ、裏面の損傷を軽減します。

04

厚さ検証

次の工程に進む前に、最終的な厚み、TTV(全膜厚)、および表面品質がチェックされます。

当社を選ぶ理由

プロセス指向のサポートを備えた信頼性の高いウェハーグラインダー供給

半導体ウェハー研削装置は、高額な投資です。当社は、装置の状態、構成、プロセスニーズ、納期、予算などを照合することで、お客様の選定リスクを軽減します。

ウェハー製造プロセスに合わせて選定された装置

適切なウェーハ研削機を推奨する前に、ウェーハのサイズ、材料の硬度、目標厚さ、TTV要件、表面品質、生産量、および下流工程のニーズを考慮します。

新品、中古、再生品の選択肢

さまざまな予算や納期に対応できる柔軟な供給オプション。

機器の状態確認

出荷前に、機械の状態、構成、および基本的な準備状況を確認することができます。

半導体製造装置フォーカス

ウェハーの研削、ダイシング、洗浄、プロービング、テスト、およびパッケージング装置のサポート。

グローバル輸出支援

輸出梱包、物流調整、国際輸送サポート。

適用#テキヨウ#

ウェーハ研削用途

ウェーハ研削は、ウェーハの薄化制御、安定した裏面品質、研削による損傷の低減、およびパッケージングや後続の製造工程への確実な準備が求められる半導体製造プロセスで使用される。

Wafer Back Grinding
01

ウェハー裏面研削

裏面研削は、ダイシング、ボンディング、またはパッケージングの前に、ウェーハの裏面材料を除去する工程です。これにより、必要なウェーハ厚さを実現するとともに、後工程の安定性を確保することができます。

Thin Wafer Production
02

薄型ウェハー製造

ウェーハ研削機は、小型デバイス、積層パッケージ、高度なパッケージング、高密度半導体集積化のためにウェーハの厚さを薄くするために使用されます。

Power Semiconductor Wafer Grinding
03

パワー半導体

IGBT、MOSFET、ダイオード、パワーモジュールなどのパワーデバイスは、パッケージング前に安定したウェハ薄化と裏面品質管理が必要となることが多い。

Compound Semiconductor Wafer Grinding
04

化合物半導体

SiC、GaN、GaAs、サファイア、その他の硬質ウェハ材料は、表面損傷を低減し、均一性を向上させるために、適切な研削装置とプロセスのマッチングが必要となる。

選択ガイド

適切なウェハーグラインダーの選び方

ウェハーサイズ

お使いのグラインダーが、4インチ、6インチ、8インチ、または12インチのウェハー加工プロセスに対応しているかどうかを確認してください。

目標厚さ

最終的な厚みやTTV(総膜厚)の要件が異なると、研削構成も異なってきます。

ウェハー材料

シリコン、炭化ケイ素、窒化ガリウム、ヒ素ガリウム、サファイアのウェーハは、それぞれ異なる研削条件を必要とする。

表面品質

細かい研磨は、裏面の損傷、研磨痕、微細なひび割れを軽減するのに役立ちます。

自動化レベル

生産ラインは通常、自動搬送、安定した生産量、そして稼働停止時間の短縮を必要とする。

予算とリードタイム

中古品や再生品のウェハーグラインダーは、投資額を削減し、納期を短縮することができます。

ブランドとプラットフォーム

ウェハースグラインダーのブランド調達をお手伝いできます

ディスコ
アクレテック
Okamoto
Tokyo Seimitsu
G&N
レヴァサム
ストラスボー
アプライドマテリアルズ
FAQ

ウェハーグラインダーに関するよくある質問

ウェハーグラインダーとは何ですか?

ウェーハ研削機は、半導体製造装置の一種で、制御された研削によってウェーハを薄くし、裏面の材料を除去するために使用される。

ウェハーグラインダーは何に使用されますか?

これは、ウェーハの薄化、裏面研削、厚み制御、表面品質の向上、高度なパッケージング、MEMSプロセス、およびパワー半導体製造に使用されます。

ウェハー研削とウェハーダイシングの違いは何ですか?

ウェーハ研削はウェーハの厚みを薄くする工程であり、ウェーハダイシングはウェーハを個々のチップまたはダイに分割する工程である。

中古または再生品のウェハースグラインダーを購入できますか?

はい。中古および再生品のウェハーグラインダーは、低投資で信頼性の高い研削能力を必要とするお客様に適しています。

適切なウェハーグラインダーはどのように選べばよいですか?

ウェーハのサイズ、目標厚さ、ウェーハの材質、TTV要件、表面品質、自動化レベル、予算、および利用可能なサポートを考慮する必要があります。

ウェハースグラインダーが必要ですか?

ウェハ研削のご要望をお送りください。最適なご提案をさせていただきます。

ウェハーのサイズ、材質、目標厚さ、加工要件、希望ブランド、ご予算、納期をお知らせください。最適なウェハー研削機をご提案いたします。

連絡先

なぜこれほど多くの人が GeekValue と協力することを選択するのでしょうか?

私たちのブランドは街から街へと広がり、数え切れないほどの人から「GeekValueって何?」と聞かれます。それは、最先端技術で中国のイノベーションを支援するというシンプルなビジョンから生まれています。これは、絶え間ない改善を追求するブランド精神であり、細部への飽くなき追求と、あらゆる納品で期待を上回る喜びの中に秘められています。この執念とも言えるほどの職人技と献身は、創業者の粘り強さだけでなく、私たちのブランドの真髄であり、温もりでもあります。ぜひここからスタートし、完璧を創造する機会を与えてください。共に次の「ゼロ欠陥」の奇跡を創りましょう。

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