Nordson MARCH AP-300 ပလာစမာသန့်စင်စက်

Nordson MARCH AP-300 သည် ကျစ်လစ်သိပ်သည်းပြီး ကုန်ကျစရိတ်သက်သာသော benchtop vacuum plasma စနစ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ အဓိကအားသာချက်မှာ 13.56 MHz RF power supply နှင့် automatic impedance matching network ပေါင်းစပ်မှုတွင် တည်ရှိပြီး ကျစ်လစ်သိပ်သည်းသော footprint အတွင်း ထူးခြားသော၊ တည်ငြိမ်သော နှင့် uniform plasma processing ရလဒ်များကို ပေးစွမ်းနိုင်စေပါသည်။

**လည်ပတ်မှုအခြေခံမူ**

AP-300 သည် အခန်းကို မြင့်မားသောလေဟာနယ်အခြေအနေသို့ စွန့်ထုတ်ရန် ဖုန်စုပ်စက်ကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် လည်ပတ်ပြီး ထို့နောက်တွင် သီးခြားလုပ်ငန်းစဉ်ဓာတ်ငွေ့များကို ထည့်သွင်းသည်။ 13.56 MHz RF စွမ်းအင်ကို အသုံးပြုခြင်းဖြင့် ဓာတ်ငွေ့သည် ပလာစမာဖွဲ့စည်းရန် အိုင်းယွန်းဓာတ်ပြုမှု ဖြစ်ပေါ်သည်။ ပလာစမာအတွင်းရှိ မြင့်မားသောစွမ်းအင်ရှိသော အမှုန်များနှင့် ဓာတ်ပြုမှုရှိသော မျိုးစိတ်များသည် ပစ္စည်းမျက်နှာပြင်နှင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဗုံးကြဲတိုက်ခိုက်မှု သို့မဟုတ် ဓာတုဗေဒ ဓာတ်ပြုမှုများတွင် ပါဝင်ပတ်သက်ပြီး မျက်နှာပြင် သန့်စင်ခြင်း၊ အသက်ဝင်ခြင်း သို့မဟုတ် ထွင်းထုခြင်းတို့ကို ရရှိစေပါသည်။

**အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်များနှင့် အသုံးချမှုများ**

AP-300 ရဲ့ အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်ကတော့ တည်ငြိမ်ပြီး ထိန်းချုပ်နိုင်တဲ့ ပလာစမာပတ်ဝန်းကျင်ကို ပံ့ပိုးပေးဖို့ပါ။ အဓိကယန္တရားသုံးခုကတစ်ဆင့် နောက်ဆုံးထုတ်ကုန်တွေရဲ့ အရည်အသွေးနဲ့ ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် လုပ်ဆောင်ပေးပါတယ်။

**လုပ်ဆောင်ချက် အမျိုးအစား** | **အကောင်အထည်ဖော်မှု နည်းလမ်းနှင့် အကျိုးသက်ရောက်မှု**

**ပလာစမာ သန့်ရှင်းရေး** | ပစ္စည်းမျက်နှာပြင်များမှ အော်ဂဲနစ် ညစ်ညမ်းပစ္စည်းများနှင့် အောက်ဆိုဒ်များကို ဖယ်ရှားပေးပြီး အက်တမ်အဆင့် သန့်ရှင်းမှုကို ရရှိစေပါသည်။

**မျက်နှာပြင် အသက်သွင်းခြင်း** | ဟိုက်ဒရောဆိုင်းနှင့် ကာဘောက်ဆီဆိုင်းအုပ်စုများကဲ့သို့သော ပိုလာလုပ်ဆောင်ချက်အုပ်စုများကို ပစ္စည်းမျက်နှာပြင်ပေါ်သို့ မိတ်ဆက်ပေးခြင်းဖြင့် မျက်နှာပြင်စွမ်းအင်နှင့် ရေစိုခံနိုင်စွမ်းကို မြှင့်တင်ပေးပြီး အခြားပစ္စည်းများနှင့် ကပ်ငြိမှုကို မြှင့်တင်ပေးပါသည်။

**Etching / Descum** | မိုက်ခရွန် သို့မဟုတ် နာနိုမီတာစကေးများတွင်ပင် တိကျသော anisotropic သို့မဟုတ် isotropic etching ကို လုပ်ဆောင်ရန် ဖလိုရင်းပါဝင်သော လုပ်ငန်းစဉ်ဓာတ်ငွေ့များ (ဥပမာ CF₄) ကို အသုံးပြုသည်။ ဝေဖာများမှ photoresist အကြွင်းအကျန်များကို ဖယ်ရှားနိုင်သည်။

**အဓိက အားသာချက်များနှင့် အင်္ဂါရပ်များ**

AP-300 ၏ ဒီဇိုင်းသည် ကျစ်လျစ်သော နေရာတစ်ခုအတွင်း စွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုတို့အကြား အလွန်ကောင်းမွန်သော ဟန်ချက်ညီမှုကို ဖြစ်ပေါ်စေပါသည်။ ၎င်း၏ အဓိကအင်္ဂါရပ်များကို အောက်တွင်ဖော်ပြထားပါသည်။

**အမျိုးအစား** | **အဓိကအင်္ဂါရပ်** | **သီးခြားဖော်ပြချက်**

**အားသာချက်များ** | **တစ်ပြေးညီဖြစ်မှုနှင့် ထပ်ခါတလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်မှု မြင့်မားခြင်း** | 13.56 MHz RF ဂျင်နရေတာနှင့် အလိုအလျောက် impedance matching network ပေါင်းစပ်ထားခြင်းဖြင့် လုပ်ငန်းစဉ်ရလဒ်များ၏ ယှဉ်နိုင်စရာမရှိသော ထပ်ခါတလဲလဲလုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကို သေချာစေသည်။

**ရိုးရှင်းပြီး ယုံကြည်စိတ်ချရသော လည်ပတ်မှု** | PLC-အခြေပြု touchscreen ထိန်းချုပ်မှုစနစ် ပါဝင်ပြီး အလိုလိုသိနိုင်သော ဂရပ်ဖစ် interface နှင့် အချိန်နှင့်တပြေးညီ လုပ်ငန်းစဉ်စောင့်ကြည့်ခြင်းကို ပေးဆောင်သည်။ ခိုင်ခံ့သော သတ္တုဖြင့် တည်ဆောက်ထားသောကြောင့် ရေရှည်တည်ငြိမ်မှုကို အာမခံသည်။

**ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုနှင့် ချဲ့ထွင်နိုင်မှု** | O₂၊ Ar၊ H₂၊ He နှင့် CF₄ ကဲ့သို့သော ဓာတ်ငွေ့များအတွက် လုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များကို လိုက်လျောညီထွေဖြစ်စေမည့် ဓာတ်ငွေ့လိုင်းလေးလိုင်းအထိ ပံ့ပိုးပေးပါသည်။ **ကုန်ကျစရိတ်သက်သာခြင်း** | ကုန်ကျစရိတ်နည်းပါးစွာဖြင့် ထူးခြားသောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့် ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုကို ပေးစွမ်းနိုင်သောကြောင့် သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးနှင့် အသေးစားစမ်းသပ်ထုတ်လုပ်မှုအတွက် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုတစ်ခု ဖြစ်စေပါသည်။

**အဓိကအင်္ဂါရပ်များ** | **ကျစ်လစ်သိပ်သည်းသော ဒက်စတော့ဒီဇိုင်း** | အပြည့်အဝ ကိုယ်ပိုင်ပါဝင်သည်၊ ပြင်ပဖုန်စုပ်စက်ချိတ်ဆက်မှုသာ လိုအပ်ပြီး စံဓာတ်ခွဲခန်းစားပွဲ သို့မဟုတ် အလုပ်စားပွဲတွင် အလွယ်တကူ တပ်ဆင်နိုင်သည်။

**ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ် အခန်းဖွဲ့စည်းပုံ** | အခန်းကို တာရှည်ခံ အလူမီနီယမ်ဖြင့် တည်ဆောက်ထားပြီး ဖြုတ်တပ်နိုင်သော၊ ချိန်ညှိနိုင်သော အီလက်ထရုတ်ဗန်း ၇ ခုအထိ ထည့်သွင်းနိုင်သည်။

**လုပ်ငန်းစဉ်မုဒ်များစွာကို ပံ့ပိုးပေးသည်** | Direct Plasma (အဓိကအားဖြင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာ ဗုံးကြဲတိုက်ခိုက်မှု) နှင့် Downstream Plasma (အဓိကအားဖြင့် ဓာတုဗေဒ အစွန်းရောက်များ) မုဒ်နှစ်မျိုးလုံးကို ပံ့ပိုးပေးပြီး မတူညီသော လုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းရန် ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ်ရှိမှုကို ပေးဆောင်သည်။

**အသေးစိတ်သတ်မှတ်ချက်များ**

**ကန့်သတ်ချက် အမျိုးအစား** | **သီးခြား သတ်မှတ်ချက်များ**

**စုစုပေါင်းအတိုင်းအတာ (WxDxH)** | ၅၆၉ × ၈၆၉ × ၇၀၄ မီလီမီတာ

**အသားတင်အလေးချိန်** | ၂၂၁ ကီလိုဂရမ် (၄၈၇ ပေါင်)

**အခန်း ပမာဏ** | ၃၃.၁ လီတာ

**လျှပ်ကူးပစ္စည်းအရေအတွက်** | ၇ ခုအထိ

**လျှပ်ကူးပစ္စည်း အကွာအဝေး** | ၂၅.၄ မီလီမီတာ (၁ လက်မ)

**စံ RF ပါဝါ** | 300 W @ 13.56 MHz

**ဓာတ်ငွေ့စီးဆင်းမှုထိန်းချုပ်ကိရိယာ (MFC)** | စံအဖြစ် ၂ ခုပါဝင်သည်၊ ၄ ခုအထိ တိုးချဲ့နိုင်သည်

**လိုက်ဖက်သော ဓာတ်ငွေ့များ** | Ar၊ O₂၊ H₂၊ He၊ CF₄ စသည်တို့။

**ကျယ်ပြန့်သော အသုံးချနယ်ပယ်များ**

AP-300 သည် အသုံးချမှုအမျိုးမျိုးကို ဂုဏ်ယူဝင့်ကြွားစွာ အသုံးပြုနိုင်ပြီး၊ အထူးသဖြင့် အောက်ပါ အဓိက စက်မှုကဏ္ဍများတွင် အဓိက အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။

**တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းများနှင့် မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်ပစ္စည်းများ-** ဒယ်ချိတ်ခြင်း၊ ဝါယာကြိုးချိတ်ခြင်းနှင့် flip-chip underfilling မတိုင်မီ activation cleaning အတွက်အပြင် wafer-level packaging မတိုင်မီ post-lithography resist stripping နှင့် plasma treatment အတွက်လည်း ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုပါသည်။

**ပုံနှိပ်ဆားကစ်ဘုတ်များနှင့် အီလက်ထရွန်းနစ် တပ်ဆင်ခြင်း-** ကျန်ရှိနေသော flux ကဲ့သို့သော အညစ်အကြေးများကို ထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားပေးပြီး conformal coating နှင့် underfilling ကဲ့သို့သော လုပ်ငန်းစဉ်များမတိုင်မီ မျက်နှာပြင်စိုစွတ်မှုကို မြှင့်တင်ပေးသည်။

**ဆေးပညာနှင့် အသက်သိပ္ပံ-** ချည်နှောင်ခြင်းလုပ်ငန်းစဉ်များနှင့် microfluidic chips ကဲ့သို့သော ရှုပ်ထွေးသောဖွဲ့စည်းပုံများ ထုတ်လုပ်စဉ်အတွင်း ယုံကြည်စိတ်ချရသော သန့်ရှင်းရေးစွမ်းဆောင်ရည်ကို ပေးစွမ်းသည်။

**အကျဉ်းချုပ်**

အကျဉ်းချုပ်အားဖြင့် Nordson MARCH AP-300 သည် သုတေသနအဆင့် တိကျမှု၊ စက်မှုအဆင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုနှင့် အသုံးပြုရလွယ်ကူသော လည်ပတ်မှုရိုးရှင်းမှုတို့ကို အံ့မခန်း ပေါင်းစပ်ထားသော ဒက်စ်တော့ ပလာစမာစနစ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ အဓိကတန်ဖိုးမှာ ကျစ်လစ်သော အနေအထားတစ်ခုအတွင်း အစွမ်းထက်သော စွမ်းရည်များကို ထားရှိခြင်းဖြစ်ပြီး တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း၊ မိုက်ခရိုအီလက်ထရွန်းနစ်နှင့် ဆေးဘက်ဆိုင်ရာကဏ္ဍများတစ်လျှောက် သုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးနှင့် အသေးစားထုတ်လုပ်မှုအသုံးချမှု နှစ်မျိုးလုံးအတွက် အကောင်းဆုံးရွေးချယ်မှုတစ်ခု ဖြစ်စေသည်။