Плазменный очиститель Nordson MARCH AP-300

Nordson MARCH AP-300 — это компактная и экономичная настольная вакуумная плазменная система. Ее главное преимущество заключается в интеграции источника питания ВЧ-сигнала с частотой 13,56 МГц и автоматической сети согласования импеданса, что позволяет ей обеспечивать исключительные, стабильные и равномерные результаты плазменной обработки при компактных размерах.

**Принцип работы**

Установка AP-300 работает за счет использования вакуумного насоса для откачки воздуха из камеры до высокого вакуума, после чего вводятся специальные технологические газы. При подаче радиочастотной энергии с частотой 13,56 МГц газ ионизируется, образуя плазму. Высокоэнергетические частицы и реакционноспособные частицы в плазме вступают в физическую бомбардировку или химические реакции с поверхностью материала, обеспечивая тем самым очистку, активацию или травление поверхности.

**Основные функции и области применения**

Основная функция установки AP-300 — обеспечение стабильной и контролируемой плазменной среды. Она в первую очередь оптимизирует качество и надежность конечной продукции за счет трех ключевых механизмов:

**Категория функций** | **Способ реализации и эффект**

**Плазменная очистка** | Удаляет органические загрязнения и оксиды с поверхностей материалов, обеспечивая чистоту на атомарном уровне.

**Активация поверхности** | Вводит полярные функциональные группы, такие как гидроксильные и карбоксильные группы, на поверхность материала, тем самым увеличивая поверхностную энергию и смачиваемость для улучшения адгезии с другими материалами.

**Травление / Удаление остатков** | Использует фторсодержащие технологические газы (например, CF₄) для выполнения точного анизотропного или изотропного травления в микро- или даже нанометровом масштабе; способен удалять остатки фоторезиста с пластин.

**Основные преимущества и особенности**

Конструкция AP-300 обеспечивает превосходный баланс между производительностью и гибкостью в компактном корпусе. Основные характеристики описаны ниже:

**Категория** | **Основная функция** | **Подробное описание**

**Преимущества** | **Высокая однородность и воспроизводимость** | ВЧ-генератор с частотой 13,56 МГц в сочетании с автоматической сетью согласования импеданса обеспечивает беспрецедентную воспроизводимость результатов процесса.

**Простое и надежное управление** | Оснащен сенсорной системой управления на базе ПЛК с интуитивно понятным графическим интерфейсом и мониторингом процесса в реальном времени; прочная цельнометаллическая конструкция гарантирует долговременную стабильность.

**Гибкость и расширяемость** | Поддерживает до четырех газовых линий, удовлетворяя технологическим требованиям для таких газов, как O₂, Ar, H₂, He и CF₄. **Экономичность** | Обеспечивает исключительную производительность и гибкость при низкой стоимости, что делает его идеальным выбором для НИОКР и мелкомасштабного пилотного производства.

**Основные характеристики** | **Компактный настольный дизайн** | Полностью автономный; требует только подключения внешнего вакуумного насоса и легко помещается на стандартном лабораторном столе или верстаке.

**Гибкая конфигурация камеры** | Камера изготовлена ​​из прочного алюминия и вмещает до 7 съемных регулируемых лотков для электродов.

**Поддерживает несколько режимов обработки** | Поддерживает как режим прямой плазмы (в основном физическая бомбардировка), так и режим плазмы на выходе (в основном химические радикалы), обеспечивая гибкость для удовлетворения разнообразных требований процесса.

**Подробные характеристики**

**Категория параметров** | **Конкретные характеристики**

**Габаритные размеры (ШхГхВ)** | 569 × 869 × 704 мм

**Вес нетто** | 221 кг (487 фунтов)

**Объем камеры** | 33,1 литра

**Количество электродов** | До 7

**Расстояние между электродами** | 25,4 мм (1 дюйм)

**Стандартная мощность радиочастоты** | 300 Вт при 13,56 МГц

**Регулировка потока газа (MFC)** | 2 входят в стандартную комплектацию; возможность расширения до 4.

**Совместимые газы** | Ar, O₂, H₂, He, CF₄ и др.

**Широкие области применения**

AP-300 обладает широким спектром применения и играет ключевую роль, особенно в следующих основных отраслях промышленности:

**Полупроводники и микроэлектроника:** Широко используется для очистки перед пайкой кристаллов, проволочной пайкой и заполнением компаундом при флип-чипе, а также для удаления резиста и плазменной обработки после литографии перед упаковкой на уровне пластины.

**Печатные платы и электронная сборка:** Эффективно удаляет загрязнения, такие как остатки флюса, и улучшает смачиваемость поверхности перед такими процессами, как конформное покрытие и заполнение подложки.

**Медицина и медико-биологические науки:** Обеспечивает надежную очистку в процессах склеивания и при изготовлении сложных конструкций, таких как микрофлюидные чипы.

**Краткое содержание**

Вкратце, Nordson MARCH AP-300 — это настольная плазменная система, которая замечательно сочетает в себе точность исследовательского уровня, надежность промышленного класса и простоту в эксплуатации. Ее главное преимущество заключается в размещении мощных возможностей в компактном корпусе, что делает ее идеальным выбором как для НИОКР, так и для мелкосерийного производства в полупроводниковой, микроэлектронной и медицинской отраслях.