Az ACM Research ULTRA ECP ap-p egy úttörő, panelszintű vízszintes bevonórendszer, amelyet alapvető értéke különböztet meg: betölt egy kritikus folyamatbeli rést a Fan-Out panelszintű csomagolás (FOPLP) iparosításában.
Az első kereskedelmi forgalomban kapható, tömeggyártású rézleválasztó rendszerként, amelyet a nagyméretű panelek piacára terveztek, célja a zökkenőmentes átmenet elősegítése a fejlett tokozások terén a 300 mm-es ostyaszintről a költséghatékonyabb panelszintre. Szabadalmaztatott vízszintes bevonási technológiájának, kivételes egyenletességének és a vetemedett panelek hatékony kezelésének köszönhetően a rendszer a kör alakú ostyaeljárásokhoz hasonló feldolgozási teljesítményt ér el, ezáltal megfelel a következő generációs eszközök, például a mesterséges intelligenciával működő GPU-k és a nagy sűrűségű HBM-ek szigorú gyártási követelményeinek.
Az alábbiakban az ULTRA ECP alkalmazás átfogó áttekintését találja, amelyet nyilvánosan elérhető információk alapján állítottak össze:
**Berendezések elhelyezése**
**Terméksorozat:** Panel szintű (ap-p) modell az ULTRA ECP (Elektrokémiai galvanizálás) platformon belül.
**Iparági elismerés:** A 2025-ös „3D InCites Technológiai Támogatási Díj” kitüntetettje.
**Alapvető technológiák és funkciók**
Az ULTRA ECP alkalmazás technikai jellemzői a következők:
**Vízszintes bevonatolási kialakítás:** Az ACM szabadalmaztatott vízszintes bevonatolási technológiáját alkalmazza – eltérve a hagyományos függőleges bevonatolástól –, amely a tokmány szinkronizált forgásának és a forgó téglalap alakú elektromos mezőnek köszönhetően kivételesen egyenletes bevonatvastagságot biztosít a teljes panelen. Ez a megközelítés hatékonyan minimalizálja a kémiai keresztszennyeződést a folyamatkamrák között; továbbá a vízszintes kamra kialakítása megkönnyíti az egyes kamrák karbantartását, ezáltal növelve a berendezés általános hatékonyságát.
**Optimalizált precíziós hardver:** Négyoldalas, tömített, száraz érintkezésű tokmánnyal rendelkezik, amely növeli a lapka/panel kezelésének megbízhatóságát és tisztaságát. A rézbevonó kamra kifejezetten a nagy kiemelkedésű alkalmazásokhoz tervezett nagy sebességű bevonó lapátokkal van felszerelve, lehetővé téve a 300 mikronnál magasabb kiemelkedések kialakítását.
**Többfémes támogatás és keresztszennyeződés-szabályozás:** Rugalmasságot kínál különféle fémanyagok – többek között réz, nikkel, ón-ezüst és arany – feldolgozásához, miközben a kamrán belüli tisztítási funkciókat kihasználva minimalizálja a keresztszennyeződést a különböző fémbevonó fürdők között.
**Kompatibilitás és automatizálás:** Támogatja mind a szerves, mind az üveg hordozókat. Automatizálási rendszere kifejezetten nagyméretű panelekhez van optimalizálva – beleértve az olyan kritikus műveleteket is, mint a panelek átfordítása –, így a hatékony folyamatvezérlés szintje összehasonlítható a lapka szintű feldolgozásban megállapított szabványokkal. Részletes specifikációk
A nyilvánosan elérhető információk alapján a főbb specifikációk a következők:
Panelméret: Standard 510 mm x 515 mm-es méretet támogat, opcionálisan akár 600 mm x 600 mm-ig bővíthető.
Folyamatos kompatibilitás: Támogatja a galvanizálási lépéseket különféle folyamatokon belül, beleértve a pillér-, dudor- és újraelosztási réteg (RDL) kialakítását.
Kapacitáskonfiguráció: Akár 16 galvanizáló kamrával is konfigurálható, kiegészítve 2 előnedvesítő kamrával és 2 tisztítókamrával az optimális áteresztőképesség biztosítása érdekében.
Vetemedés kezelése: Akár 7 mm-es (kb. 10 mm-es) vetemedési szintű panelek hatékony feldolgozására képes, ami kritikus fontosságú a fejlett csomagolási folyamatokhoz.
Teljesítménymutatók:
Panelen belüli egyenletesség (WIWU): < 5% ((max-min)/2átlag)
Kockán belüli egyenletesség (WIDU): < 5% ((max-min)/2átlag)
Ismételhetőség: < 3%
Főbb alkalmazási területek
Elsősorban fejlett félvezető tokozási alkalmazásokat céloz meg, beleértve, de nem kizárólagosan:
Panelszintű, kiterített csomagolás (FOPLP)
Oszlop- és dudorgyártás, valamint újraelosztási réteg (RDL) kialakítása
Szilíciumon keresztüli (TSV) és üvegen keresztüli (TGV) töltet
Nagy sűrűségű kivezetéses (HDFO) termékek
Piaci pozíció és verseny
Az ULTRA ECP app-p jelentős vezető pozíciót tölt be a panelszintű galvanizálás feltörekvő piacán. Elsődleges versenytársai a nagy nemzetközi félvezetőberendezés-gyártók – mint például az Applied Materials és a Lam Research –, amelyek szintén panelszintű tokozási (PLP) galvanizálási megoldásokat fejlesztenek. Az ACM fő előnye úttörő státuszában rejlik, mivel elsőként szállított sikeresen kereskedelmi forgalomba hozott berendezéseket ezen a területen.
Összegzés
Összefoglalva, az ACM Research ULTRA ECP app-p programja egy előremutató technológiai platformot képvisel. Nemcsak kulcsfontosságú szerepet játszik a fejlett csomagolóipar kritikus átmenetében a „kerek ostyákról” a „téglalap alakú panelekre”, hanem innovatív megoldásokat is kínál a csúcskategóriás félvezető eszközök, például a mesterséges intelligencia chipek gyártási hatékonyságának és költséghatékonyságának növelésére.

