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DISCO DFG8560 wafer grinder

DISCO DFG8560 웨이퍼 분쇄기

DISCO DFG8560은 대량 생산을 위해 설계된 완전 자동화된 12인치 웨이퍼 박막화 솔루션입니다.

상태:중고 재고 있음: 있음 보증:공급
디테일

6DISCO DFG8560은 DFG800 시리즈의 업그레이드 버전으로, 완전 자동 웨이퍼 박막화 장비입니다. 특히 12인치 웨이퍼 박막화 공정의 까다로운 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 핵심 작동 원리는 듀얼 스핀들과 트리플 척 구성에 기반하며, 단일 웨이퍼 클램핑 작업으로 박막화 공정의 "황삭 연삭"과 "정삭 연삭" 단계를 모두 완료합니다. 이러한 설계는 공정 효율성과 정밀 제어를 크게 향상시킵니다.

**작동 원리**

DFG8560은 고정밀 기계적 움직임을 통해 웨이퍼 박막화를 구현합니다.

**고강성 구조:** 본 기계는 고강성 공기 베어링 스핀들을 사용하여 연삭 공정 전반에 걸쳐 탁월한 안정성을 보장합니다.

**2단계 분쇄 공정:**

**거친 연삭:** 첫 번째 스핀들은 입자가 굵은 연삭 휠(예: 수지 결합 다이아몬드 휠)을 사용합니다. 고속 회전을 통해 웨이퍼 뒷면의 대부분의 재료를 빠르게 제거하여 효율을 극대화합니다.

**정밀 연삭:** 두 번째 스핀들은 더 미세한 입자의 휠(예: 세라믹 결합 다이아몬드 휠)을 사용하여 웨이퍼를 정밀하게 연삭합니다. 이 과정을 통해 매끄럽고 평평한 표면이 만들어지고, 거친 연삭 단계에서 발생한 손상된 층이 제거됩니다.

실제 작동 시, 웨이퍼는 진공 흡입을 통해 회전하는 척에 고정됩니다. 척은 고속 연삭 휠과 반대 방향으로 회전하며, 휠은 수직으로 아래쪽으로 이동하면서 웨이퍼 표면을 절삭합니다.

**주요 특징**

DFG8560의 핵심 기능은 웨이퍼 박막화입니다. 이를 위해 다음과 같은 핵심 기능들을 통합하고 있습니다.

**완전 자동화 작동:** 이 장비는 웨이퍼 로딩, 정렬, 연삭, 세척, 언로딩에 이르는 전체 워크플로우를 자동화하여 수동 개입을 크게 줄이고 생산 효율을 향상시킵니다.

**고정밀 두께 제어:** 고해상도(0.1μm) 온라인 두께 측정 시스템을 통합하여 연삭 공정의 폐루프 제어를 구현함으로써 최종 웨이퍼 두께의 정확도를 보장합니다.

**초박형 웨이퍼 가공:** DFG8560은 분쇄 및 가공 시스템 매개변수를 최적화하여 웨이퍼 파손 위험을 최소화하면서 두께 100μm 이하의 초박형 웨이퍼를 안정적으로 가공할 수 있습니다.

**결함 감지:** 이 시스템은 웨이퍼 표면의 결함을 식별하여 후속 수리 프로세스 또는 피드백 루프에 필요한 데이터를 제공합니다.

**사용자 친화적인 인터페이스:** 터치스크린 LCD와 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)를 갖춘 이 시스템은 처리 및 장비 상태를 실시간으로 표시하여 작동 및 유지 관리를 더욱 간편하고 직관적으로 만들어 줍니다.

**온라인 통합 및 확장:** DFG8560은 다음과 같은 더욱 복잡한 자동화 생산 라인에 원활하게 통합될 수 있습니다.

**DBG(포스트 다이 그라인딩) 시스템:** 다이싱 및 박막화 공정을 통합하여 초박형 칩 제조에 특히 적합합니다.

**건식 연마기(예: DFP8160):** 연삭 공정 후 건식 연마를 수행하는 통합 시스템을 구성하여 웨이퍼 표면 조도(Ry 값)를 더욱 감소시키고 연삭으로 인한 손상을 제거합니다.

**웨이퍼 라미네이터/스트리퍼:** 보호 연마 필름을 자동으로 부착하거나 제거하는 기능이 통합되어 완전 자동화된 워크플로우를 구현합니다.

**SECS/GEM 통신:** 이 장치는 SECS/GEM 통신 프로토콜을 지원하여 공장의 제조 실행 시스템(MES)에 연결하여 원격 모니터링 및 자동 생산 데이터 수집이 가능합니다.

**적용 분야 및 기능:**

DFG8560의 주요 기능은 다이싱 및 패키징과 같은 후속 공정을 위해 균일한 두께와 우수한 표면 품질의 웨이퍼를 제공하는 것입니다. 또한 폭넓은 재료 호환성 덕분에 다양한 응용 분야에 적합합니다.

**웨이퍼 박막화:** 웨이퍼 두께를 원래 두께에서 목표 두께로 줄이는 것 - 거의 모든 응용 분야에 필수적인 요구 사항입니다.

**손상층 제거:** 상류 공정(예: 후면 연삭)에서 발생한 응력 손상층을 제거하는 것은 칩의 기계적 강도를 확보하는 데 매우 중요한 단계입니다.

**표면 평탄화:** 후속 정밀 공정(예: 포토리소그래피 및 접합)을 위한 매우 평평한 기판을 제공하는 것으로, 고정밀 제조에 필수적인 요소입니다.

**3D 패키징 및 TSV 노광:** TSV(Through-Silicon Vias) 기술 구현에 필요한 박막 웨이퍼를 제공하고, 첨단 패키징의 핵심 구성 요소인 TSV 구조의 하단부를 정밀하게 노광합니다.

전력 및 RF 장치 제조: SiC, GaN 및 기타 화합물 반도체 웨이퍼를 얇게 만들어 온 저항을 줄이고 열 방출을 개선하는 데 사용됩니다.

광학 장치 및 필터 제조: 사파이어(LED 기판) 및 리튬 탄탈레이트/리튬 니오베이트(RF 필터)와 같은 단단하고 취성이 강한 재료의 정밀 박막화 및 평탄화에 사용됩니다.

상세 사양

사양 사양

적용 가능한 가공물 크기: Φ300 mm (12인치). 범용 척은 Φ200 mm/Φ300 mm 웨이퍼를 지원합니다.

연삭 방식: 웨이퍼 회전 종방향 이송 연삭.

스핀들 구성: 이중 스핀들(2축). 고주파 모터 구동식 공기압 스핀들 내장.

척 테이블 구성: 회전 테이블 시스템을 사용하는 3개의 척 테이블. 척 회전 속도: 0~300 rpm.

스핀들 출력: 정격 출력 4.8kW.

스핀들 속도: 1,000 - 4,000 min⁻¹ (rpm).

Z축 이동 거리: 120mm (원점 포함).

Z축 연삭 이송 속도: 0.0001 - 0.08 mm/s (0.1 - 80 μm/s).

최소 Z축 이동 거리: 0.1 μm.

두께 측정 범위: 0 - 1,800 μm.

두께 측정 해상도: 0.1 μm.

두께 측정 반복성: ±0.5 μm.

연삭 휠 사양: Φ300 mm 다이아몬드 연삭 휠.

웨이퍼 내 두께 편차(TTV): 3.0μm 미만(전용 작업대 사용, φ300mm 웨이퍼).

웨이퍼 간 두께 편차: ±3.0 μm 미만.

마무리 가공 후 표면 조도: Ry 약 0.13 μm (2000번 연삭 휠 사용 시); Ry 약 0.15 μm (1400번 연삭 휠 사용 시).

장비 크기(가로 × 세로 × 높이): 약 1,400 × 3,190 × 1,800 mm.

장비 중량: 약 4,000kg.

필요 전력: 3상 200/220/380/400V, 50/60Hz, 최대 전력 소비량 약 22kVA.

필요한 압축 공기: 0.5 MPa 이상, 깨끗하고 오일이 없으며, 이슬점은 -15℃ 이하, 유량은 약 1,000 NL/min.

용수 공급 요건: 탈이온수(DI water), 온도 23±1℃, 유량 6-10 L/min.

핵심 이점

DFG8560은 다음과 같은 장점을 통해 고성능 웨이퍼 박막화 장비로서 시장 입지를 더욱 공고히 하고 있습니다.

높은 연삭 정밀도: 최적화된 설계를 통해 연삭 품질이 효과적으로 향상되어 웨이퍼 내 두께 균일도(TTV) 및 웨이퍼 간 일관성이 탁월하며, 첨단 패키징과 같은 까다로운 공정에 필요한 성능을 보장합니다.

안정적인 분쇄 품질: 최적화된 분쇄 및 처리 매개변수를 통해 안정적인 초박형 웨이퍼 분쇄가 가능하며, 파손율을 효과적으로 제어하여 고부가가치 대형 웨이퍼 생산에 필수적인 조건을 충족합니다.

탁월한 확장성: DBG 및 건식 연마와 같은 다양한 인라인 통합 옵션을 제공하여 생산 라인 업그레이드에 유연하게 적응하고 사용자 투자를 완벽하게 보호합니다.

뛰어난 호환성: 실리콘, SiC, GaN, 사파이어, LT/LN 등 다양한 소재를 처리할 수 있어 다양한 반도체 및 광전자 장치 제조에 상당한 공정 유연성을 제공합니다.

사용자 친화적이고 유지보수가 용이함: 사용자 친화적인 GUI와 터치스크린으로 작동 진입 장벽을 크게 낮췄습니다. 또한 주요 구성 요소는 800 시리즈와 호환되므로 예비 부품 재고 비용과 가동 중단 위험을 줄일 수 있습니다.

경량 설계: 사양 및 성능을 유지하면서 1톤(약 20%)의 무게 감소를 달성했습니다. 장비 무게 감소로 설치 과정이 간소화되고 공장 바닥의 하중 지지 요구 사항이 줄어듭니다.

기술적 특징 요약: 이중 축 3중 흡착판 설계: 거친 연삭과 정밀 연삭을 분리하여 한 번의 클램핑 작업으로 완료함으로써 효율성을 향상시키고 정확성을 보장합니다.

공기압식 스핀들: 공기압식 스핀들을 사용하는 이 설계는 기계적 접촉을 제거하여 마모를 최소화하고 장기간 높은 회전 정밀도를 유지합니다. 이는 초고정밀 가공을 구현하는 핵심 부품입니다.

이중 연삭점 정렬 기술: 이 기술은 두 개의 스핀들이 동일한 물리적 연삭 위치를 공유하도록 하여 가공점 정렬 불량으로 인한 체계적인 오류를 제거합니다. 이를 통해 단일 웨이퍼 내 두께 균일도(TTV)와 웨이퍼 간 두께 일관성을 동시에 향상시켜 안정적인 초박형 연삭을 구현하는 핵심 기술이 됩니다.

요약: 결론적으로 DISCO DFG8560은 대량 생산을 위해 설계된 완전 자동화 12인치 웨이퍼 박막화 솔루션입니다. 주요 특징으로는 정밀한 듀얼 스핀들 구조와 뛰어난 시스템 안정성이 있으며, 이를 통해 대형 초박형 웨이퍼 처리 시 최고 수준의 균일성과 표면 품질을 구현할 수 있을 뿐 아니라 강력한 자동화 통합 기능까지 갖추고 있습니다.


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