TEL CELLESTA™ -i MD သည် 10nm နှင့် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော လုပ်ငန်းစဉ် node များအတွက် Tokyo Electron (TEL) ၏ flagship 300mm single-wafer သန့်ရှင်းရေးစနစ်ဖြစ်သည်။ ၎င်းကို အဆင့်မြင့်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ခြင်းနှင့် အခြောက်ခံခြင်းအတွင်း micro-patterned structure များ ပျက်စီးလွယ်ခြင်းကဲ့သို့သော အဓိကလုပ်ငန်းစဉ်စိန်ခေါ်မှုများကို ဖြေရှင်းရန် အထူးဒီဇိုင်းထုတ်ထားပြီး high-end ချစ်ပ်များအတွက် ပိုမိုကောင်းမွန်သောအထွက်နှုန်းကို ပံ့ပိုးပေးသည့် အဓိကကိရိယာတစ်ခုဖြစ်သည်။
အဓိကစွမ်းဆောင်ရည်- နည်းပညာပြိုကွဲမှုနှင့်ဒေတာပံ့ပိုးမှု
ပိုမိုထိုးထွင်းသိမြင်နိုင်စေရန်အတွက် ၎င်း၏ အဓိက နည်းပညာဆိုင်ရာ အင်္ဂါရပ်များကို အောက်တွင် အကျဉ်းချုပ်ဖော်ပြထားပါသည်။
အဓိကအင်္ဂါရပ်များ စွမ်းဆောင်ရည်ညွှန်းကိန်းများနှင့် နည်းပညာဆိုင်ရာအသေးစိတ်အချက်အလက်များ
10nm နှင့် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော လုပ်ငန်းစဉ် node များကို ပစ်မှတ်ထားခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်နေရာချထားခြင်း၊ ပုံစံရှိသော wafer မျက်နှာပြင်များ၏ ပျက်စီးမှုမရှိသော သန့်ရှင်းရေးနှင့် အမှုန်အမွှားများ ဖယ်ရှားခြင်းတွင် အထူးပြုသည်။
အဓိကနည်းပညာများ- သန့်ရှင်းရေးနှင့် အခြောက်ခံခြင်း အခန်းလေထုထိန်းချုပ်မှုနှင့် IPA (isopropyl alcohol) nozzle စွမ်းဆောင်ရည် အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့် ပုံစံပြိုကျမှုကင်းသော အခြောက်ခံမှုကို ရရှိစေသည်။ SC-1 နှင့် DHF ကဲ့သို့သော ဓာတုဗေဒအရည်များကို စိုစွတ်သောထွင်းထုခြင်းအတွက် အသုံးပြုနိုင်သည်။ ထို့အပြင် ဘရက်ရှ်နှင့် နှစ်ထပ်အရည်ဖြန်းခြင်းကဲ့သို့သော ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာသန့်ရှင်းရေးလုပ်ဆောင်ချက်များကို ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။
မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်နှင့် မော်ဂျူလာဖြစ်မှု- သန့်ရှင်းရေးအခန်း ၂၀ အထိ ပြင်ဆင်သတ်မှတ်နိုင်ပြီး တစ်နာရီလျှင် ဝေဖာ ၁၀၀၀ အထိ ထုတ်လုပ်နိုင်စွမ်း (WPH) နှင့် ဘီးဗယ်သန့်ရှင်းရေးယူနစ်များ၏ ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ် တိုးချဲ့မှုကို ပံ့ပိုးပေးသည်။
ကုန်ကျစရိတ်နည်းသော လည်ပတ်မှု- တပ်ဆင်ထားသော ဓာတုဗေဒ ပြန်လည်အသုံးပြုခြင်းစနစ်သည် လည်ပတ်မှုကုန်ကျစရိတ် (CoO) ကို သိသိသာသာ လျှော့ချပေးပြီး ဆာလဖျူရစ်အက်ဆစ် သုံးစွဲမှုကို ထိရောက်စွာ သက်သာစေသည်။
ယုံကြည်စိတ်ချရမှု- ၎င်း၏ သယ်ယူပို့ဆောင်ရေးစနစ်သည် အမှားအယွင်းမရှိ အတည်ပြုချက်ဖြင့် wafer ကိုင်တွယ်မှု ዑደ့ပေါင်း ၇၅၀ သန်းကို ဖြတ်သန်းခဲ့ပြီး အလွန်မြင့်မားသော အစုလိုက်အပြုံလိုက် ထုတ်လုပ်မှု တည်ငြိမ်မှုကို သေချာစေသည်။
အသုံးချမှုများ- ၎င်း၏ ဦးဆောင်နည်းပညာနှင့် တည်ငြိမ်သောစွမ်းဆောင်ရည်ကြောင့် CELLESTA™ -i MD ကို အဆင့်မြင့် semiconductor စက်ပစ္စည်းများ ထုတ်လုပ်ရာတွင် တွင်ကျယ်စွာအသုံးပြုကြပြီး အောက်ပါနယ်ပယ်များတွင် မရှိမဖြစ်အခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ပါသည်။
ယုတ္တိဗေဒချစ်ပ်များ- CPU၊ GPU နှင့် AI ပရိုဆက်ဆာများကဲ့သို့သော မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ရှိသော ယုတ္တိဗေဒချစ်ပ်များ ထုတ်လုပ်ရန်အတွက် သန့်ရှင်းသော wafer မျက်နှာပြင်များကို ပံ့ပိုးပေးသည်။
မန်မိုရီချစ်ပ်များ- DRAM နှင့် 3D NAND Flash ကဲ့သို့သော မန်မိုရီချစ်ပ်များ ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုပြီး မန်မိုရီဆဲလ်များ၏ တိကျမှုနှင့် ယုံကြည်စိတ်ချရမှုကို သေချာစေသည်။
အဆင့်မြင့်ထုပ်ပိုးမှု- BSI (back-illuminated)၊ 3D stacking၊ back-powered နှင့် SoIC (system-on-chip) ကဲ့သို့သော အဆင့်မြင့်ထုပ်ပိုးမှုလုပ်ငန်းစဉ်များ၏ သန့်ရှင်းရေးအဆင့်များတွင် ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုကြသည်။
စက်မှုလုပ်ငန်းအကဲဖြတ်ခြင်းနှင့် ဈေးကွက်အနေအထား
CELLESTA စီးရီးရဲ့ အဆင့်မြင့်မော်ဒယ်တစ်ခုအနေနဲ့ -i MD ဟာ single-wafer သန့်ရှင်းရေးမှာ TEL ရဲ့ ထိပ်တန်းအဆင့်ကို ကိုယ်စားပြုပါတယ်။ ၎င်းရဲ့ သာလွန်ကောင်းမွန်တဲ့ သန့်ရှင်းရေးစွမ်းဆောင်ရည်နဲ့ အသိအမှတ်ပြုခံရတဲ့ မြင့်မားတဲ့ယုံကြည်စိတ်ချရမှုတို့ကြောင့် ဒီပလက်ဖောင်းစီးရီးဟာ SCREEN နဲ့အတူ ကမ္ဘာလုံးဆိုင်ရာ semiconductor သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းကိရိယာဈေးကွက်မှာ ဦးဆောင်နေရာယူထားပြီး ခေတ်မီချစ်ပ်တွေရဲ့ အစုလိုက်အပြုံလိုက်ထုတ်လုပ်မှုကို ပံ့ပိုးပေးတဲ့ မရှိမဖြစ်ပစ္စည်းကိရိယာတစ်ခု ဖြစ်စေပါတယ်။



