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ThinkLaser SigmaDSC Wafer Laser Marking Machine

ThinkLaser SigmaDSC ウェハーレーザーマーキング装置

ThinkLaser SigmaDSCの中核的な位置づけは、クラス1(ISOクラス3)のクリーンルーム規格に準拠した、100mmから200mm(4インチから8インチ)のウェハー向けに特別に設計された、完全自動化された「ハードマーキング」レーザーマーキングシステムであることです。

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ThinkLsaer Laser marking machine SigmaDSCThinkLaser SigmaDSCの中核的な位置づけは、100mmから200mm(4インチから8インチ)のウェハー向けに特別に設計された、完全自動化された「ハードマーキング」レーザーマーキングシステムであり、クラス1(ISOクラス3)のクリーンルーム規格に完全に準拠している点です。

その中核的な価値は、プログラム可能な深さ制御を備えたレーザー技術を用いて、ウェハ上に永続的で読みやすい識別コードを作成することにあります。これらのコードは、裏面薄膜化、高温処理、化学洗浄といった、その後の高強度製造工程の厳しい条件に耐えられるように設計されており、製品のライフサイクル全体を通して厳格なトレーサビリティを保証します。

**基本原則**

SigmaDSCの技術的な中核は「ハードマーキング」にあります。

**ドットマトリックス式熱マーキング:** この技術では、高エネルギー密度の集束レーザービームをウェハ表面の特定箇所に照射します。これにより、材料が瞬時に局所的に溶融または蒸発し、特定の深さ(最大110ミクロン)の物理的な凹み(ピット)が形成されます。

**極めて高いパルス安定性:**均一なハードマーキングを実現する鍵は、レーザー光源の優れたパルス間安定性にあります。ThinkLaserの特許取得済みダイオード励起固体レーザーは、1kHzの周波数でパルス安定性を0.5%未満に制御します。これにより、個々のドットの深さと真円度に高い一貫性が確保され、アスペクト比(長軸と短軸の比)が1.1未満であることを保証し、優れた視認性を実現するための基盤となります。

**デュアルスポットオプティクス™:** 柔軟性を高める重要な設計機能であるこの技術により、ユーザーは同じシステム内でソフトウェア制御を介して50µmから110µmまでの2つの異なるスポットサイズを切り替えることができ、さまざまなマーキング材料や用途の要件に対応できます。

**主な利点と仕様**

SigmaDSCは、シリコン、炭化ケイ素、ヒ化ガリウム、窒化ガリウム、ガラス、セラミックなど、幅広い基板材料に対応し、半導体製造の厳しい環境にも耐えられるように設計されています。その主要な性能パラメータは明確に定義されています。

**機能カテゴリ** | **詳細説明/特定仕様**

**ハードマーキング機能** | **プログラム可能な深さ制御:** マーキング深さを自動的に調整し、最大 110 µm まで到達します。

**深度精度:** ±10%。

**スループット:** 最大250枚のウェハー/時。精度と互換性 | 互換性とプロセス: 100mmから200mmのウェハー、および300mm/310mmパネルに対応。

マーキング精度:ウェハ位置合わせ後の50x50mm領域内における繰り返し精度は±0.125mmです。

幅広い適用性:シリコン(Si)、炭化ケイ素(SiC)、ヒ化ガリウム(GaAs)、窒化ガリウム(GaN)など、幅広い材料に適しています。

自動化と通信|完全自動化操作:手動介入を最小限に抑え、オープンカセットの取り扱いをサポートします。

工場自動化インターフェース:SECS II/GEMプロトコルをサポートし、工場MESシステムへのシームレスな統合を実現します。

包括的なシステム監視:レーザーの性能データをすべて、SPC(統計的プロセス管理)レベルまで正確に記録します。

ハードウェア仕様|レーザーの種類:Nd:YLFダイオード励起固体レーザー。

レーザー波長:1053 nm。

マーキング位置:ウェハ端から25mmの環状帯内。複数のマーキンググループを任意の方向に配置可能。

オペレーティングシステム:Windows 7 Pro SP1(32ビット版)

業界標準|SEMI規格:SEMI規格に完全準拠し、T7、M12、M13などのマーキング仕様に対応しています。

国際認証:CE、SEMI S2、S8、S14などの安全および環境基準に準拠しています。

主な機能と用途

SigmaDSCは、製品ライフサイクル全体を通して高いトレーサビリティを維持することが極めて重要な半導体製造環境で主に利用されています。

半導体フロントエンドウェハ製造:クリーンルームに入るとすぐに、ウェハに固有の永久IDが刻印されます。このIDは、その後の過酷な処理工程(裏面薄化など)にも耐えられるように設計されています。これは、シリコンウェハ製造、ファウンドリ、統合デバイスメーカー(IDM)を含む生産ワークフロー全体を通して、品質トレーサビリティと統計的プロセス管理(SPC)データの生命線となります。

高度なパッケージング:ファンアウトウェハーレベルパッケージング(ファンアウトWLP)プロセスにおいて、再構成ウェハーまたはパネルに信頼性の高いIDマーキングを提供します。

**補完的な機器および製品ラインの比較**

SigmaDSCは、ThinkLaserの包括的なウェハ識別ソリューションの中核を成すコンポーネントです。ご指摘のSigmaCleanシステムは、SigmaDSCを補完する独自のシステムです。

**特長** | **SigmaDSC(ハードマーキング)** | **SigmaClean(ソフトマーキング)**

**コアプロセス** | ハードマーキング | ソフトマーキング

**主な利点** | 刻印は物理的な深さを持ち、機械研磨などの最も厳しい後処理工程にも耐えることができます。 | 超高清浄度で、異物がなく、最も厳しいクリーンルーム要件を満たします。

**代表的な用途** | 裏面薄化などの「ハード」な工程を経るウェーハに使用され、永続的なトレーサビリティを提供します。 | 表面損傷ゼロと極めて高い清浄度が最優先される、ウェーハ製造工程のフロントエンド環境で使用されます。

**まとめ**

ThinkLaser SigmaDSCは、200mmウェハーに超耐久性の「ハードマーキング」を施すための完全自動レーザーマーキングシステムです。その主要な技術的利点は、プログラム可能な深さ制御、Dual-Spot Optics™テクノロジー、そして完全自動化を実現するSECS/GEMインターフェースにあります。安定したレーザーシステム、クローズドループ制御、そして高度な自動化機能を活用することで、様々な基板材料において優れたマーキング深さの均一性と真円度を実現します。洗浄や組み立て作業を行うのではなく、ウェハーのグローバルな識別認証という重要な機能を提供します。

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