SCREEN SU-3200 je přelomový systém pro čištění jednotlivých 300mm destiček v polovodičovém průmyslu. Díky své vynikající propustnosti a špičkové technologii čistoty sloužil po dlouhou dobu jako nosný model společnosti SCREEN a podporoval výrobu logických a paměťových čipů od 32nm do 7nm a ještě pokročilejších uzlů, čímž hrál klíčovou roli na trhu s čisticími zařízeními.
Přehled klíčových funkcí a technologií: Hlavním cílem modelu SU-3200 je výrazně zvýšit propustnost čištění jednotlivých destiček při zachování extrémně vysoké čistoty a splnit tak extrémní požadavky na efektivitu pokročilých procesů.
Vysokokapacitní design: Díky inovativní čtyřvrstvé architektuře lze jeden systém konfigurovat až s 12 nezávislými procesními komorami, čímž se dosáhne zpracovatelské kapacity až 800 waferů za hodinu (WPH), což bylo v té době mezi systémy čištění jednotlivých waferů na světové úrovni špičkové.
Ultračisté procesní prostředí: Pro splnění přísných požadavků 22nm a pokročilejších uzlů je SU-3200 vybaven patentovanou technologií APAC (Advanced Process Atmosphere Control) od společnosti SCREEN. Optimalizací prostředí komory v několika rozměrech zajišťuje maximální čistotu čisticího procesu.
Klíčové technické detaily: Pro dosažení dvojího cíle – průchodnosti a čistoty – využívá SU-3200 řadu inovativních konstrukcí, které jsou podrobně popsány v tabulce níže:
Technologický rozměr | Název technologie | Klíčová funkce a metoda implementace
Průlomové zlepšení kapacity | Kompaktní komora | Snižuje objem jedné procesní komory na polovinu oproti jejímu předchůdci, což umožňuje rozmístit více komor ve stejném prostoru a tím zvýšit propustnost na jednotku plochy.
Systém vysokorychlostního přenosu | Optimalizuje logiku přenosu a rychlost waferů mezi komorami, což je klíčový faktor pro dosažení vysoké propustnosti 800 waferů/hodinu (WPH).
Zajištění čistoty | Technologie pro Asii a Tichomoří | Technologie ultračistých komor je souhrnný termín pro řadu technologií. Mezi její hlavní dílčí technologie patří:
Mikrokomora AMC: Zmenšení vnitřního objemu komory na jednu třetinu oproti předchozí verzi umožňuje rychlejší výměnu plynu a efektivně zlepšuje čistotu životního prostředí.
Vyrovnávací clona proudění vzduchu ABG: Slouží k rovnoměrnému usměrnění čistého proudu vzduchu foukaného horním vysoce účinným filtrem částic (FFU), čímž zabraňuje vzniku vírů nebo mrtvých zón v komoře a zajišťuje účinné odstraňování pevných částic.
Pokročilá ochrana proti stříkající vodě ASP: Díky přesnému designu minimalizuje stříkající chemikálie během chemického stříkání a zajišťuje čisté prostředí pro zpracování destiček.
Tryska APN Air Protection Nozzle: Využití „vzduchové clony“ během fáze sušení k ochraně povrchu destičky a zabránění vzniku vodních skvrn způsobených zbytky odpařování kapaliny.
Flexibilní dodávky chemikálií: Zdroje chemikálií lze flexibilně uspořádat. K dispozici jsou jak systémy dynamického přímého vstřikování (DDI), tak i skříňové systémy, což zákazníkům umožňuje flexibilní výběr podle specifických procesních požadavků.
Snadná údržba: Výsuvná konstrukce: Procesní komoru lze vytáhnout jako zásuvku pro snadné čištění, výměnu součástí a další údržbářské práce, což efektivně snižuje prostoje zařízení. Oblasti použití: Od špičkového výzkumu a vývoje až po zralou výrobu
SU-3200 má širokou škálu aplikací a pokrývá několik klíčových fází výroby polovodičů.
Pokročilé logické a paměťové čipy: SU-3200 se používá ve výzkumu, vývoji a výrobě čipů, včetně 7nm a pokročilejších uzlů, a to jak v procesech front-end (FEOL), tak back-end (BEOL).
Klíčové polovodičové materiály a procesy: Mezi mnoha procesy, které podporuje, patří čištění polovodičových materiálů třetí generace, jako je SiC (karbid křemíku) a GaN (nitrid galia).
Špičkový výzkum a spolupráce v oblasti ekosystémů: Díky vysokému výkonu je zařízení SU-3200 volbou předních výzkumných a vývojových institucí po celém světě. Například IBM implementovala zařízení SU-3200 ve svém výzkumném centru polovodičů v Albany ve státě New York. Společnost SCREEN dále navázala partnerství se společností Applied Materials a instalovala zařízení SU-3200 ve svém centru META za účelem vývoje pokročilejších procesů výroby čipů.
Pozice na trhu a historické příspěvky
SU-3200 není jen úspěšný produkt, ale také klíčový faktor pro ustavení vedoucí pozice společnosti SCREEN na trhu.
Dominance na trhu: Po úspěchu modelu SU-3200 si společnost SCREEN dále upevnila svou vedoucí pozici v oblasti čisticích zařízení. Podle oficiálních údajů společnosti SCREEN překročily její kumulativní dodávky zařízení pro čištění polovodičů k červenci 2025 15 000 kusů, což jí dává jedničku na světovém trhu v několika segmentech, včetně čištění jednotlivých destiček, dávkového čištění a odstředivého čištění.
Pilíř příjmů: SU-3200 byl po dlouhou dobu hvězdným produktem společnosti SCREEN a příjmy z prodeje čisticích zařízení na tomto modelu silně závisely.





