Pembersih wafer SKRIN SU-3200

SCREEN SU-3200 ialah sistem pembersihan wafer tunggal 300mm yang penting dalam industri pembuatan semikonduktor. Dengan daya pemprosesan yang unggul dan teknologi kebersihan yang terkemuka, ia telah lama menjadi model utama SCREEN, menyokong pembuatan cip logik dan memori dari 32nm hingga 7nm dan nod yang lebih canggih, memainkan peranan penting dalam pasaran peralatan pembersihan.

Gambaran Keseluruhan Penentuan Kedudukan Teras dan Teknologi: Penentuan kedudukan teras SU-3200 adalah untuk meningkatkan daya pemprosesan pembersihan wafer tunggal dengan ketara sambil mengekalkan kebersihan yang sangat tinggi, memenuhi permintaan kecekapan ekstrem bagi proses canggih.

Reka Bentuk Berdaya Proses Tinggi: Melalui seni bina bertindan empat lapisan yang inovatif, satu sistem boleh dikonfigurasikan dengan sehingga 12 ruang proses bebas, mencapai kapasiti pemprosesan sehingga 800 wafer sejam (WPH), yang merupakan peneraju dunia dalam kalangan sistem pembersihan wafer tunggal pada masa itu.

Persekitaran Proses Ultra-Bersih: Bagi memenuhi keperluan ketat nod 22nm dan yang lebih canggih, SU-3200 dilengkapi dengan teknologi APAC (Kawalan Atmosfera Proses Lanjutan) proprietari SCREEN. Dengan mengoptimumkan persekitaran ruang merentasi pelbagai dimensi, ia memastikan kebersihan terbaik proses pembersihan.

Butiran Teknikal Utama: Untuk mencapai matlamat ganda iaitu daya pemprosesan dan kebersihan, SU-3200 menggunakan satu siri reka bentuk inovatif, yang diperincikan dalam jadual di bawah:

Dimensi Teknologi | Nama Teknologi | Fungsi Teras dan Kaedah Pelaksanaan

Penambahbaikan Kapasiti Terobosan | Dewan Padat | Mengurangkan isipadu dewan proses tunggal kepada separuh daripada pendahulunya, membolehkan lebih banyak dewan digunakan dalam ruang yang sama, sekali gus meningkatkan daya pemprosesan per unit kawasan.

Sistem Pemindahan Berkelajuan Tinggi | Mengoptimumkan logik pemindahan dan kelajuan wafer antara ruang, sokongan utama untuk mencapai daya pemprosesan tinggi sebanyak 800 wafer/jam (WPH).

Jaminan Kebersihan | Teknologi APAC | Teknologi kebuk ultra-bersih ialah istilah kolektif untuk satu siri teknologi. Sub-teknologi terasnya termasuk:

Kebuk Mikro AMC: Mengurangkan isipadu dalaman kebuk kepada satu pertiga daripada sebelumnya, membolehkan penggantian gas yang lebih pantas dan meningkatkan kebersihan alam sekitar dengan berkesan.

Pengimbang Aliran Udara ABG: Digunakan untuk meratakan aliran udara bersih yang ditiup oleh penapis partikulat (FFU) berkecekapan tinggi atas, mencegah pusaran atau zon mati di dalam ruang dan memastikan penyingkiran jirim partikulat yang berkesan.

Perlindungan Percikan Lanjutan ASP: Melalui reka bentuk yang tepat, meminimumkan percikan bahan kimia semasa penyemburan bahan kimia, memastikan persekitaran pemprosesan wafer yang bersih.

Muncung Perlindungan Udara APN: Menggunakan "tirai udara" semasa peringkat pengeringan untuk melindungi permukaan wafer dan mencegah kesan air yang disebabkan oleh sisa penyejatan cecair.

Bekalan Kimia Fleksibel: Sumber kimia boleh diatur secara fleksibel. Kedua-dua sistem Suntikan Langsung Dinamik (DDI) dan jenis kabinet tersedia, membolehkan pelanggan memilih secara fleksibel mengikut keperluan proses tertentu.

Kemudahan Penyelenggaraan: Struktur tarik keluar: Ruang proses boleh ditarik keluar seperti laci untuk memudahkan pembersihan, penggantian komponen dan kerja penyelenggaraan lain, sekali gus mengurangkan masa henti peralatan dengan berkesan. Bidang Aplikasi: Daripada R&D Canggih hingga Pembuatan Matang

SU-3200 mempunyai pelbagai aplikasi, meliputi pelbagai peringkat utama pembuatan semikonduktor.

Cip Logik dan Memori Termaju: SU-3200 digunakan dalam R&D dan pengeluaran cip, termasuk nod 7nm dan yang lebih maju, dalam kedua-dua proses bahagian hadapan (FEOL) dan bahagian belakang (BEOL).

Bahan dan Proses Semikonduktor Utama: Antara banyak proses yang disokongnya ialah pembersihan bahan semikonduktor generasi ketiga seperti SiC (Silikon Karbida) dan GaN (Gallium Nitrida).

Kolaborasi Penyelidikan dan Ekosistem Tercanggih: Prestasi SU-3200 yang hebat menjadikannya pilihan institusi R&D terkemuka di seluruh dunia. Contohnya, IBM telah melaksanakan SU-3200 di pusat penyelidikan semikonduktornya di Albany, New York. Tambahan pula, SCREEN telah bekerjasama dengan Applied Materials, memasang SU-3200 di Pusat METAnya untuk membangunkan proses cip yang lebih canggih.

Kedudukan Pasaran dan Sumbangan Sejarah

SU-3200 bukan sahaja merupakan produk yang berjaya tetapi juga faktor utama dalam mewujudkan kedudukan kepimpinan pasaran SCREEN.

Penguasaan Pasaran: Berikutan kejayaan SU-3200, SCREEN mengukuhkan lagi kedudukannya sebagai peneraju dalam bidang peralatan pembersihan. Menurut data rasmi SCREEN, sehingga Julai 2025, penghantaran kumulatif peralatan pembersihan semikonduktornya melebihi 15,000 unit, memegang bahagian pasaran global nombor satu dalam pelbagai segmen termasuk pembersihan wafer tunggal, pembersihan kelompok dan pembersihan putaran.

Tonggak Hasil: Untuk masa yang lama, SU-3200 merupakan produk bintang SCREEN dan hasil perniagaan peralatan pembersihannya sangat bergantung pada model ini.