SCREEN-kiekkojen puhdistusaine SU-3200

SCREEN SU-3200 on uraauurtava 300 mm:n yksittäisten kiekkojen puhdistusjärjestelmä puolijohdeteollisuudessa. Ylivertaisen suoritustehonsa ja johtavan puhtausteknologiansa ansiosta se toimi SCREENin tukipilarina pitkään tukemalla logiikka- ja muistipiirien valmistusta 32 nm:stä 7 nm:iin ja jopa edistyneempien solmujen valmistuksessa, ja sillä oli ratkaiseva rooli puhdistuslaitteiden markkinoilla.

Ytimen sijoittelun ja teknologian yleiskatsaus: SU-3200:n ytimen sijoittelu lisää merkittävästi yksittäisten kiekkojen puhdistuksen läpimenoa ja samalla ylläpitää erittäin korkeaa puhtaustasoa, mikä täyttää edistyneiden prosessien äärimmäiset tehokkuusvaatimukset.

Suuri läpimenoteho: Innovatiivisen nelikerroksisen pinoarkkitehtuurin ansiosta yhteen järjestelmään voidaan konfiguroida jopa 12 itsenäistä prosessikammiota, jolloin saavutetaan jopa 800 kiekon käsittelykapasiteetti tunnissa (WPH), mikä oli tuolloin maailman johtavaa yksittäisten kiekkojen puhdistusjärjestelmien joukossa.

Erittäin puhdas prosessiympäristö: SU-3200 on varustettu SCREENin omalla APAC-teknologialla (Advanced Process Atmosphere Control), joka täyttää 22 nm:n ja sitä kehittyneempien solmujen tiukat vaatimukset. Optimoimalla kammioympäristön useissa ulottuvuuksissa se varmistaa puhdistusprosessin äärimmäisen puhtauden.

Tärkeimmät tekniset tiedot: Läpäisykyvyn ja puhtauden saavuttamiseksi SU-3200 käyttää useita innovatiivisia rakenteita, jotka on kuvattu alla olevassa taulukossa:

Teknologian ulottuvuus | Teknologian nimi | Ydintoiminto ja toteutustapa

Läpimurto kapasiteetin parannuksessa | Kompakti kammio | Pienentää yksittäisen prosessikammion tilavuuden puoleen edeltäjäänsä verrattuna, mikä mahdollistaa useampien kammioiden sijoittamisen samaan tilaan ja siten lisää läpivirtausta pinta-alayksikköä kohti.

Nopea siirtojärjestelmä | Optimoi kiekkojen siirtologiikan ja nopeuden kammioiden välillä, mikä on avainasemassa 800 kiekon/tunti (WPH) läpimenon saavuttamisessa.

Puhtaudenvarmistus | APAC-teknologia | Erittäin puhdas kammioteknologia on yhteisnimitys useille teknologioille. Sen ydinosa-alueisiin kuuluvat:

AMC-mikrokammio: Kammion sisätilavuutta on pienennetty kolmasosaan edeltäjänsä tilavuudesta, mikä mahdollistaa nopeamman kaasunvaihdon ja parantaa tehokkaasti ympäristön puhtautta.

ABG-ilmavirran tasapainotuslevy: Käytetään tasaamaan ylimmän tehokkaan hiukkassuodattimen (FFU) puhaltamaa puhdasta ilmavirtaa, estämään pyörteitä tai katvealueita kammiossa ja varmistamaan hiukkasten tehokkaan poiston.

ASP Advanced Roiskesuojaus: Tarkan suunnittelun ansiosta kemikaalien roiskuminen kemikaaliruiskutuksen aikana minimoituu ja kiekkojen käsittelyympäristö on puhdas.

APN-ilmasuojasuutin: Käyttää "ilmaverhoa" kuivausvaiheessa kiekon pinnan suojaamiseksi ja nestemäisten haihtumisjäämien aiheuttamien vesitahrojen estämiseksi.

Joustava kemikaalien toimitus: Kemikaalilähteet voidaan järjestää joustavasti. Saatavilla on sekä dynaaminen suoraruiskutus (DDI) että kaappityyppiset järjestelmät, joiden avulla asiakkaat voivat valita joustavasti tiettyjen prosessivaatimusten mukaan.

Helppo huoltaa: Ulosvedettävä rakenne: Prosessikammio voidaan vetää ulos laatikon tavoin helppoa puhdistusta, komponenttien vaihtoa ja muita huoltotöitä varten, mikä vähentää tehokkaasti laitteiden seisokkiaikaa. Sovellusalueet: Huippuluokan tutkimus- ja kehitystyöstä kypsään valmistukseen

SU-3200:lla on laaja valikoima sovelluksia, jotka kattavat useita puolijohdevalmistuksen keskeisiä vaiheita.

Edistyneet logiikka- ja muistipiirit: SU-3200-piiriä käytetään sirujen, mukaan lukien 7 nm:n ja kehittyneempien solmujen, tutkimukseen ja kehitykseen sekä tuotantoon sekä etupään (FEOL) että taustaprosesseissa (BEOL).

Keskeiset puolijohdemateriaalit ja -prosessit: Sen tukemien monien prosessien joukossa on kolmannen sukupolven puolijohdemateriaalien, kuten piikarbidin (SiC) ja galliumnitridin (GaN), puhdistus.

Huippututkimusta ja ekosysteemiyhteistyötä: SU-3200:n tehokas suorituskyky tekee siitä johtavien tutkimus- ja kehityslaitosten valinnan maailmanlaajuisesti. Esimerkiksi IBM on ottanut SU-3200:n käyttöön puolijohdetutkimuskeskuksessaan Albanyssa, New Yorkissa. Lisäksi SCREEN on tehnyt yhteistyötä Applied Materialsin kanssa ja asentanut SU-3200:n sen META-keskukseen edistyneempien siruprosessien kehittämiseksi.

Markkina-asema ja historialliset vaikutukset

SU-3200 ei ole ainoastaan ​​menestyvä tuote, vaan myös avaintekijä SCREENin markkinajohtajuuden vakiinnuttamisessa.

Markkina-asema: SU-3200:n menestyksen jälkeen SCREEN vahvisti entisestään johtavaa asemaansa puhdistuslaitteiden alalla. SCREENin virallisten tietojen mukaan sen puolijohdepuhdistuslaitteiden kumulatiiviset toimitukset ylittivät heinäkuuhun 2025 mennessä 15 000 yksikköä, mikä on maailmanlaajuinen markkinajohtaja useissa segmenteissä, mukaan lukien yksittäisten kiekkojen puhdistus, eräpuhdistus ja linkouspuhdistus.

Liikevaihtopilari: SU-3200 oli pitkään SCREENin tähtituote, ja sen siivouslaitteiden liiketoiminnan liikevaihto oli erittäin riippuvainen tästä mallista.