မျက်နှာပြင် ဝေဖာ သန့်စင်ဆေး SU-3200

SCREEN SU-3200 သည် semiconductor ထုတ်လုပ်ရေးလုပ်ငန်းတွင် အထင်ကရ 300mm single-wafer သန့်ရှင်းရေးစနစ်တစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ သာလွန်ကောင်းမွန်သော throughput နှင့် ဦးဆောင်သန့်ရှင်းရေးနည်းပညာဖြင့် ၎င်းသည် SCREEN ၏ အဓိကမော်ဒယ်အဖြစ် အချိန်ကြာမြင့်စွာ တာဝန်ထမ်းဆောင်ခဲ့ပြီး 32nm မှ 7nm အထိ logic နှင့် memory chip များနှင့် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော node များ ထုတ်လုပ်မှုကို ပံ့ပိုးပေးခဲ့ပြီး သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းဈေးကွက်တွင် အရေးပါသောအခန်းကဏ္ဍမှ ပါဝင်ခဲ့သည်။

အဓိကနေရာချထားခြင်းနှင့် နည်းပညာခြုံငုံသုံးသပ်ချက်- SU-3200 ၏ အဓိကနေရာချထားခြင်းမှာ အဆင့်မြင့်လုပ်ငန်းစဉ်များ၏ အလွန်အမင်းထိရောက်မှုလိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းပေးနေစဉ်တွင် အလွန်မြင့်မားသော သန့်ရှင်းမှုကို ထိန်းသိမ်းထားစဉ်တွင် single-wafer သန့်ရှင်းရေး၏ throughput ကို သိသိသာသာတိုးမြှင့်ရန်ဖြစ်သည်။

မြင့်မားသောစွမ်းဆောင်ရည်ဒီဇိုင်း- ဆန်းသစ်သော အလွှာလေးလွှာပါ စီတန်းထားသော ဗိသုကာပုံစံမှတစ်ဆင့် တစ်ခုတည်းသောစနစ်ကို သီးခြားလုပ်ငန်းစဉ်အခန်း ၁၂ ခုအထိ ပြင်ဆင်နိုင်ပြီး တစ်နာရီလျှင် ဝေဖာ ၈၀၀ (WPH) အထိ လုပ်ဆောင်နိုင်စွမ်းကို ရရှိစေခဲ့ပြီး ထိုအချိန်က ဝေဖာတစ်ခုတည်း သန့်ရှင်းရေးစနစ်များတွင် ကမ္ဘာ့ဦးဆောင်ဖြစ်ခဲ့သည်။

အလွန်သန့်ရှင်းသော လုပ်ငန်းစဉ်ပတ်ဝန်းကျင်- 22nm နှင့် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော node များ၏ တင်းကျပ်သောလိုအပ်ချက်များကို ဖြည့်ဆည်းရန်အတွက် SU-3200 တွင် SCREEN ၏ မူပိုင်ခွင့် APAC (အဆင့်မြင့်လုပ်ငန်းစဉ်လေထုထိန်းချုပ်မှု) နည်းပညာ တပ်ဆင်ထားသည်။ အခန်းပတ်ဝန်းကျင်ကို ရှုထောင့်များစွာတွင် အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့် သန့်ရှင်းရေးလုပ်ငန်းစဉ်၏ အကောင်းဆုံးသန့်ရှင်းမှုကို သေချာစေသည်။

အဓိက နည်းပညာဆိုင်ရာ အသေးစိတ်အချက်အလက်များ- ထုတ်လုပ်မှုပမာဏနှင့် သန့်ရှင်းမှု နှစ်ထပ်ရည်မှန်းချက်များ အောင်မြင်ရန်အတွက် SU-3200 သည် အောက်ပါဇယားတွင် အသေးစိတ်ဖော်ပြထားသည့် ဆန်းသစ်သော ဒီဇိုင်းများစွာကို အသုံးပြုထားသည်။

နည်းပညာဆိုင်ရာ ရှုထောင့် | နည်းပညာအမည် | အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်နှင့် အကောင်အထည်ဖော်မှုနည်းလမ်း

ထူးချွန်ထက်မြက်သော စွမ်းရည်တိုးတက်မှု | ကျစ်လစ်သိပ်သည်းသော အခန်း | တစ်ခုတည်းသော လုပ်ငန်းစဉ်အခန်း၏ ပမာဏကို ယခင်အခန်း၏ ထက်ဝက်အထိ လျှော့ချပေးသောကြောင့် တူညီသောနေရာတွင် အခန်းများ ပိုမိုဖြန့်ကျက်နိုင်စေပြီး ယူနစ်ဧရိယာတစ်ခုလျှင် ထုတ်လုပ်မှုပမာဏကို တိုးမြှင့်ပေးပါသည်။

မြန်နှုန်းမြင့် လွှဲပြောင်းစနစ် | အခန်းများအကြား ဝေဖာများ၏ လွှဲပြောင်းမှုယုတ္တိဗေဒနှင့် အမြန်နှုန်းကို အကောင်းဆုံးဖြစ်အောင် ပြုလုပ်ပေးပြီး၊ တစ်နာရီလျှင် ဝေဖာ ၈၀၀ (WPH) ၏ မြင့်မားသော throughput ရရှိရန် အဓိက အထောက်အပံ့တစ်ခုဖြစ်သည်။

သန့်ရှင်းမှုအာမခံချက် | APAC နည်းပညာ | Ultra-clean chamber နည်းပညာဆိုသည်မှာ နည်းပညာစီးရီးတစ်ခုအတွက် စုပေါင်းအသုံးအနှုန်းတစ်ခုဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ အဓိကနည်းပညာခွဲများတွင် အောက်ပါတို့ပါဝင်သည်-

AMC မိုက်ခရို-အခန်း- အခန်း၏ အတွင်းပိုင်းထုထည်ကို ယခင်အခန်း၏ သုံးပုံတစ်ပုံအထိ လျှော့ချပေးခြင်းဖြင့် ဓာတ်ငွေ့အစားထိုးမှုကို ပိုမိုမြန်ဆန်စေပြီး ပတ်ဝန်းကျင်သန့်ရှင်းရေးကို ထိရောက်စွာ တိုးတက်ကောင်းမွန်စေပါသည်။

ABG လေစီးဆင်းမှု ဟန်ချက်ညီ Baffle: အပေါ်ဆုံး စွမ်းဆောင်ရည်မြင့် အမှုန်အမွှားစစ်ထုတ်ကိရိယာ (FFU) မှ မှုတ်ထုတ်လိုက်သော သန့်ရှင်းသော လေစီးဆင်းမှုကို ညီမျှစေရန် အသုံးပြုပြီး အခန်းအတွင်းရှိ ဝဲယာများ သို့မဟုတ် သေဇုန်များကို ကာကွယ်ပေးပြီး အမှုန်အမွှားများကို ထိရောက်စွာ ဖယ်ရှားပေးပါသည်။

ASP အဆင့်မြင့် ရေပက်ခြင်းကာကွယ်မှု- တိကျသောဒီဇိုင်းဖြင့်၊ ဓာတုပက်ဖြန်းစဉ်အတွင်း ဓာတုပက်ဖြန်းမှုကို အနည်းဆုံးဖြစ်အောင်ပြုလုပ်ပေးပြီး သန့်ရှင်းသော ဝေဖာပြုလုပ်သည့်ပတ်ဝန်းကျင်ကို သေချာစေသည်။

APN လေကာကွယ်မှု နှုတ်သီး- ဝေဖာမျက်နှာပြင်ကို ကာကွယ်ရန်နှင့် အရည်အငွေ့ပျံခြင်း အကြွင်းအကျန်များကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော ရေအစွန်းအထင်းများကို ကာကွယ်ရန်အတွက် အခြောက်ခံသည့်အဆင့်တွင် "လေကာ" ကို အသုံးပြုသည်။

ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ် ဓာတုပစ္စည်းထောက်ပံ့မှု- ဓာတုပစ္စည်းရင်းမြစ်များကို ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ် စီစဉ်ပေးနိုင်ပါသည်။ Dynamic Direct Injection (DDI) နှင့် cabinet-type စနစ်နှစ်မျိုးလုံး ရရှိနိုင်ပြီး ဖောက်သည်များအနေဖြင့် သီးခြားလုပ်ငန်းစဉ်လိုအပ်ချက်များအရ ပြောင်းလွယ်ပြင်လွယ် ရွေးချယ်နိုင်စေပါသည်။

ပြုပြင်ထိန်းသိမ်းရလွယ်ကူခြင်း- ဆွဲထုတ်နိုင်သောဖွဲ့စည်းပုံ- လုပ်ငန်းစဉ်အခန်းကို အံဆွဲကဲ့သို့ ဆွဲထုတ်နိုင်ပြီး သန့်ရှင်းရေးလုပ်ရလွယ်ကူခြင်း၊ အစိတ်အပိုင်းအစားထိုးခြင်းနှင့် အခြားပြုပြင်ထိန်းသိမ်းမှုလုပ်ငန်းများအတွက် လွယ်ကူသောကြောင့် စက်ပစ္စည်းများ ရပ်တန့်ချိန်ကို ထိရောက်စွာ လျှော့ချပေးပါသည်။ အသုံးချနယ်ပယ်များ- ခေတ်မီသုတေသနနှင့် ဖွံ့ဖြိုးတိုးတက်ရေးမှ ရင့်ကျက်သောထုတ်လုပ်မှုအထိ

SU-3200 သည် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းထုတ်လုပ်မှု၏ အဓိကအဆင့်များစွာကို လွှမ်းခြုံထားသည့် အသုံးချမှုအမျိုးမျိုးရှိသည်။

အဆင့်မြင့်ယုတ္တိဗေဒနှင့် မှတ်ဉာဏ်ချစ်ပ်များ- SU-3200 ကို front-end (FEOL) နှင့် back-end (BEOL) လုပ်ငန်းစဉ်နှစ်ခုလုံးတွင် 7nm နှင့် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော node များအပါအဝင် ချစ်ပ်များ၏ R&D နှင့် ထုတ်လုပ်ရာတွင် အသုံးပြုသည်။

အဓိက တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်း ပစ္စည်းများနှင့် လုပ်ငန်းစဉ်များ- ၎င်းက ပံ့ပိုးပေးသော လုပ်ငန်းစဉ်များစွာထဲတွင် SiC (Silicon Carbide) နှင့် GaN (Gallium Nitride) ကဲ့သို့သော တတိယမျိုးဆက် တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းများကို သန့်စင်ခြင်း ပါဝင်သည်။

ခေတ်မီသုတေသနနှင့် ဂေဟစနစ်ပူးပေါင်းဆောင်ရွက်မှု- SU-3200 ၏ အစွမ်းထက်သောစွမ်းဆောင်ရည်ကြောင့် ကမ္ဘာတစ်ဝှမ်းရှိ ထိပ်တန်း R&D အဖွဲ့အစည်းများ၏ ရွေးချယ်မှုတစ်ခုဖြစ်စေသည်။ ဥပမာအားဖြင့် IBM သည် နယူးယောက်၊ အယ်လ်ဘာနီရှိ ၎င်း၏ semiconductor သုတေသနစင်တာတွင် SU-3200 ကို အကောင်အထည်ဖော်ခဲ့သည်။ ထို့အပြင်၊ SCREEN သည် ပိုမိုအဆင့်မြင့်သော ချစ်ပ်လုပ်ငန်းစဉ်များ တီထွင်ရန်အတွက် ၎င်း၏ META Center တွင် SU-3200 ကို တပ်ဆင်ခြင်းဖြင့် Applied Materials နှင့် ပူးပေါင်းခဲ့သည်။

ဈေးကွက်အနေအထားနှင့် သမိုင်းဝင်ပံ့ပိုးမှုများ

SU-3200 သည် အောင်မြင်သော ထုတ်ကုန်တစ်ခုသာမက SCREEN ၏ ဈေးကွက်ဦးဆောင်မှု အနေအထားကို ထူထောင်ရာတွင် အဓိကအချက်တစ်ခုလည်း ဖြစ်သည်။

ဈေးကွက်လွှမ်းမိုးမှု- SU-3200 ၏ အောင်မြင်မှုအပြီးတွင် SCREEN သည် သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းကိရိယာနယ်ပယ်တွင် ၎င်း၏ ဦးဆောင်အနေအထားကို ပိုမိုခိုင်မာစေခဲ့သည်။ တရားဝင် SCREEN အချက်အလက်များအရ ၂၀၂၅ ခုနှစ် ဇူလိုင်လအထိ ၎င်း၏ တစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာ စုစုပေါင်းတင်ပို့မှုမှာ ယူနစ် ၁၅,၀၀၀ ကျော်ရှိပြီး single-wafer သန့်ရှင်းရေး၊ batch သန့်ရှင်းရေးနှင့် spin သန့်ရှင်းရေး အပါအဝင် အပိုင်းများစွာတွင် ကမ္ဘာ့ဈေးကွက်ဝေစုကို နံပါတ်တစ်အဖြစ် ထိန်းသိမ်းထားခဲ့သည်။

ဝင်ငွေအဓိကနေရာ- SU-3200 သည် SCREEN ၏ ထိပ်တန်းထုတ်ကုန်ဖြစ်ပြီး ၎င်း၏ သန့်ရှင်းရေးပစ္စည်းလုပ်ငန်းဝင်ငွေသည် ဤမော်ဒယ်ပေါ်တွင် များစွာမူတည်ပါသည်။