SCREEN waferrenser SU-3200

SCREEN SU-3200 er et milepælsrengøringssystem med én wafer på 300 mm i halvlederindustrien. Med sin overlegne kapacitet og førende renhedsteknologi fungerede det som SCREENs faste model i lang tid og understøttede fremstillingen af ​​logik- og hukommelseschips fra 32 nm til 7 nm og endnu mere avancerede noder, og spillede en afgørende rolle på markedet for rengøringsudstyr.

Kernepositionering og teknologioversigt: Kernepositioneringen af ​​SU-3200 er at øge gennemløbshastigheden af ​​enkeltwaferrensning betydeligt, samtidig med at ekstremt høj renlighed opretholdes og dermed opfylde de ekstreme effektivitetskrav i avancerede processer.

Højkapacitetsdesign: Gennem en innovativ firelags stablet arkitektur kan et enkelt system konfigureres med op til 12 uafhængige proceskamre, hvilket opnår en behandlingskapacitet på op til 800 wafere i timen (WPH), hvilket var verdensførende blandt enkeltwaferrensningssystemer på det tidspunkt.

Ultrarent procesmiljø: For at opfylde de strenge krav fra 22nm og mere avancerede noder er SU-3200 udstyret med SCREENs proprietære APAC-teknologi (Advanced Process Atmosphere Control). Ved at optimere kammermiljøet på tværs af flere dimensioner sikrer den ultimative renlighed i rengøringsprocessen.

Vigtige tekniske detaljer: For at opnå de dobbelte mål om gennemløbshastighed og renlighed anvender SU-3200 en række innovative designs, som er beskrevet i tabellen nedenfor:

Teknologidimension | Teknologinavn | Kernefunktion og implementeringsmetode

Banebrydende kapacitetsforbedring | Kompakt kammer | Reducerer volumen af ​​et enkelt proceskammer til halvdelen af ​​dets forgænger, hvilket gør det muligt at implementere flere kamre inden for det samme rum og dermed øge gennemløbshastigheden pr. arealenhed.

Højhastighedsoverførselssystem | Optimerer overførselslogikken og hastigheden af ​​wafere mellem kamre, en vigtig støtte til at opnå en høj gennemløbshastighed på 800 wafere/time (WPH).

Renlighedssikring | APAC-teknologi | Ultraren kammerteknologi er en samlet betegnelse for en række teknologier. Dens kerneunderteknologier omfatter:

AMC-mikrokammer: Reducerer kammerets indvendige volumen til en tredjedel af forgængeren, hvilket muliggør hurtigere gasudskiftning og effektivt forbedrer miljømæssig renlighed.

ABG luftstrømsbalanceringsplade: Bruges til at udjævne den rene luftstrøm, der blæses ned af det øverste højeffektive partikelfilter (FFU), hvilket forhindrer hvirvler eller døde zoner i kammeret og sikrer effektiv fjernelse af partikler.

ASP Advanced Stænkbeskyttelse: Gennem præcist design minimeres kemikaliestænk under kemisk sprøjtning og sikres et rent waferbehandlingsmiljø.

APN luftbeskyttelsesdyse: Bruger et "luftgardin" under tørrefasen for at beskytte waferoverfladen og forhindre vandpletter forårsaget af væskefordampningsrester.

Fleksibel kemikalieforsyning: Kemikaliekilder kan arrangeres fleksibelt. Både dynamisk direkte injektion (DDI) og kabinetlignende systemer er tilgængelige, hvilket giver kunderne mulighed for fleksibelt at vælge i henhold til specifikke proceskrav.

Nem vedligeholdelse: Udtræksstruktur: Processkammeret kan trækkes ud som en skuffe for nem rengøring, udskiftning af komponenter og andet vedligeholdelsesarbejde, hvilket effektivt reducerer udstyrets nedetid. Anvendelsesområder: Fra banebrydende forskning og udvikling til moden produktion

SU-3200 har en bred vifte af anvendelser, der dækker flere nøglefaser inden for halvlederproduktion.

Avancerede logik- og hukommelseschips: SU-3200 bruges i forskning og udvikling samt produktion af chips, herunder 7nm og mere avancerede noder, i både frontend- (FEOL) og backend- (BEOL) processer.

Vigtige halvledermaterialer og -processer: Blandt de mange processer, den understøtter, er rensning af tredjegenerations halvledermaterialer såsom SiC (siliciumcarbid) og GaN (galliumnitrid).

Banebrydende forskning og økosystemsamarbejde: SU-3200's kraftfulde ydeevne gør den til det foretrukne valg for førende forsknings- og udviklingsinstitutioner verden over. For eksempel har IBM implementeret SU-3200 på sit halvlederforskningscenter i Albany, New York. Derudover har SCREEN indgået et partnerskab med Applied Materials og installeret SU-3200 på sit META Center for at udvikle mere avancerede chipprocesser.

Markedsposition og historiske bidrag

SU-3200 er ikke kun et succesfuldt produkt, men også en nøglefaktor i etableringen af ​​SCREENs markedsledende position.

Markedsdominans: Efter succesen med SU-3200 har SCREEN yderligere styrket sin førende position inden for rengøringsudstyr. Ifølge officielle SCREEN-data oversteg virksomhedens samlede leverancer af halvlederrenseudstyr 15.000 enheder pr. juli 2025, hvilket betyder, at virksomheden har den største globale markedsandel i flere segmenter, herunder rensning af enkeltwafere, batchrensning og centrifugeringsrensning.

Indtægtssøjle: I lang tid var SU-3200 SCREENs stjerneprodukt, og deres omsætning inden for rengøringsudstyr var i høj grad afhængig af denne model.