Очисник пластин SCREEN SU-3200

SCREEN SU-3200 – це знакова система очищення окремих пластин розміром 300 мм у галузі виробництва напівпровідників. Завдяки своїй високій пропускній здатності та передовій технології очищення, вона довгий час була основною моделлю SCREEN, підтримуючи виробництво логічних мікросхем та мікросхем пам'яті від 32 нм до 7 нм та навіть більш просунутих вузлів, відіграючи вирішальну роль на ринку обладнання для очищення.

Огляд основного позиціонування та технологій: Основне позиціонування SU-3200 полягає у значному збільшенні продуктивності очищення окремих пластин, зберігаючи при цьому надзвичайно високий рівень чистоти, що відповідає надзвичайним вимогам ефективності передових процесів.

Високопродуктивна конструкція: Завдяки інноваційній чотиришаровій багатошаровій архітектурі, одна система може бути налаштована з 12 незалежними технологічними камерами, досягаючи продуктивності до 800 пластин на годину (WPH), що на той час було світовим лідером серед систем очищення окремих пластин.

Надзвичайно чисте середовище процесу: Щоб відповідати суворим вимогам 22-нм та більш просунутих вузлів, SU-3200 оснащений запатентованою технологією APAC (Advanced Process Atmosphere Control) від SCREEN. Оптимізуючи середовище камери за кількома вимірами, вона забезпечує максимальну чистоту процесу очищення.

Ключові технічні деталі: Для досягнення подвійної цілі – пропускної здатності та чистоти – SU-3200 використовує низку інноваційних конструкцій, детально описаних у таблиці нижче:

Технологічний вимір | Назва технології | Основна функція та метод впровадження

Проривне покращення продуктивності | Компактна камера | Зменшує об'єм однієї технологічної камери вдвічі порівняно з її попередником, що дозволяє розгортати більше камер в одному просторі, тим самим збільшуючи пропускну здатність на одиницю площі.

Система високошвидкісної передачі | Оптимізує логіку передачі та швидкість пластин між камерами, що є ключовим фактором для досягнення високої пропускної здатності 800 пластин/годину (WPH).

Забезпечення чистоти | Технологія Азіатсько-Тихоокеанського регіону | Технологія надчистих камер – це збірний термін для низки технологій. Її основні підтехнології включають:

Мікрокамера AMC: Зменшення внутрішнього об'єму камери до однієї третини порівняно з попередньою моделлю, що дозволяє швидше замінювати газ та ефективно покращувати чистоту навколишнього середовища.

Дефлектор балансування повітряного потоку ABG: використовується для вирівнювання чистого повітряного потоку, що продувається верхнім високоефективним фільтром частинок (FFU), запобігаючи утворенню завихрень або мертвих зон у камері та забезпечуючи ефективне видалення твердих частинок.

Розширений захист від бризок ASP: завдяки точному дизайну мінімізується розбризкування хімікатів під час хімічного розпилення, що забезпечує чисте середовище для обробки пластин.

Повітряно-захисна насадка APN: використання «повітряної завіси» під час сушіння для захисту поверхні пластини та запобігання утворенню водяних плям, спричинених випаровуванням залишків рідини.

Гнучке постачання хімікатів: Джерела хімікатів можна гнучко організувати. Доступні як системи динамічного прямого впорскування (DDI), так і шафові системи, що дозволяє клієнтам гнучко вибирати відповідно до конкретних вимог процесу.

Простота обслуговування: Висувна конструкція: Процесну камеру можна висувати як шухляду для легкого очищення, заміни компонентів та інших робіт з технічного обслуговування, що ефективно скорочує час простою обладнання. Галузі застосування: Від передових досліджень і розробок до зрілого виробництва

SU-3200 має широкий спектр застосування, охоплюючи кілька ключових етапів виробництва напівпровідників.

Розширена логіка та мікросхеми пам'яті: SU-3200 використовується в дослідженнях, розробках та виробництві мікросхем, включаючи 7-нм та більш просунуті вузли, як у фронтенд- (FEOL), так і в серверних (BEOL) процесах.

Ключові напівпровідникові матеріали та процеси: Серед багатьох процесів, які він підтримує, є очищення напівпровідникових матеріалів третього покоління, таких як SiC (карбід кремнію) та GaN (нітрид галію).

Передові дослідження та співпраця екосистем: Потужна продуктивність SU-3200 робить його вибором провідних науково-дослідних установ по всьому світу. Наприклад, IBM впровадила SU-3200 у своєму дослідницькому центрі напівпровідників в Олбані, штат Нью-Йорк. Крім того, SCREEN співпрацює з Applied Materials, встановивши SU-3200 у своєму центрі META для розробки більш просунутих процесів виробництва мікросхем.

Позиція на ринку та історичний внесок

SU-3200 — це не лише успішний продукт, але й ключовий фактор у формуванні лідерських позицій SCREEN на ринку.

Домінування на ринку: Після успіху SU-3200, SCREEN ще більше зміцнила свої лідируючі позиції в галузі обладнання для очищення. Згідно з офіційними даними SCREEN, станом на липень 2025 року сукупні поставки обладнання для очищення напівпровідників перевищили 15 000 одиниць, що дозволило компанії посісти перше місце на світовому ринку в кількох сегментах, включаючи очищення окремих пластин, пакетне очищення та очищення центрифугуванням.

Основний напрямок доходів: Протягом тривалого часу SU-3200 був зірковим продуктом SCREEN, а дохід від бізнесу з виробництва обладнання для чищення значною мірою залежав від цієї моделі.