Pembersih wafer SCREEN SU-3200

SCREEN SU-3200 adalah sistem pembersihan wafer tunggal 300mm yang menjadi tonggak sejarah dalam industri manufaktur semikonduktor. Dengan throughput yang unggul dan teknologi kebersihan terdepan, sistem ini telah lama menjadi model andalan SCREEN, mendukung manufaktur chip logika dan memori dari 32nm hingga 7nm dan bahkan node yang lebih canggih, memainkan peran penting di pasar peralatan pembersihan.

Gambaran Umum Penentuan Posisi Inti dan Teknologi: Penentuan posisi inti SU-3200 adalah untuk secara signifikan meningkatkan kapasitas pembersihan wafer tunggal sambil mempertahankan kebersihan yang sangat tinggi, memenuhi tuntutan efisiensi ekstrem dari proses-proses canggih.

Desain Berkecepatan Tinggi: Melalui arsitektur bertumpuk empat lapis yang inovatif, satu sistem dapat dikonfigurasi dengan hingga 12 ruang proses independen, mencapai kapasitas pemrosesan hingga 800 wafer per jam (WPH), yang merupakan yang terdepan di dunia di antara sistem pembersihan wafer tunggal pada saat itu.

Lingkungan Proses Ultra Bersih: Untuk memenuhi persyaratan ketat dari node 22nm dan yang lebih canggih, SU-3200 dilengkapi dengan teknologi APAC (Advanced Process Atmosphere Control) milik SCREEN. Dengan mengoptimalkan lingkungan ruang proses di berbagai dimensi, teknologi ini memastikan kebersihan proses pembersihan yang optimal.

Detail Teknis Utama: Untuk mencapai tujuan ganda yaitu throughput dan kebersihan, SU-3200 menggunakan serangkaian desain inovatif, yang dirinci dalam tabel di bawah ini:

Dimensi Teknologi | Nama Teknologi | Fungsi Inti dan Metode Implementasi

Peningkatan Kapasitas yang Luar Biasa | Ruang Kompak | Mengurangi volume ruang proses tunggal menjadi setengah dari pendahulunya, sehingga memungkinkan untuk menempatkan lebih banyak ruang dalam ruang yang sama, dan dengan demikian meningkatkan hasil per satuan luas.

Sistem Transfer Kecepatan Tinggi | Mengoptimalkan logika transfer dan kecepatan wafer antar ruang, dukungan utama untuk mencapai throughput tinggi sebesar 800 wafer/jam (WPH).

Jaminan Kebersihan | Teknologi APAC | Teknologi ruang ultra-bersih adalah istilah kolektif untuk serangkaian teknologi. Sub-teknologi intinya meliputi:

Ruang Mikro AMC: Mengurangi volume internal ruang menjadi sepertiga dari pendahulunya, memungkinkan penggantian gas yang lebih cepat dan secara efektif meningkatkan kebersihan lingkungan.

ABG Airflow Balancing Baffle: Digunakan untuk meratakan aliran udara bersih yang ditiupkan oleh filter partikulat efisiensi tinggi (FFU) bagian atas, mencegah pusaran atau zona mati di dalam ruang dan memastikan penghilangan partikulat yang efektif.

ASP Advanced Splash Protection: Melalui desain yang presisi, meminimalkan percikan bahan kimia selama penyemprotan bahan kimia, memastikan lingkungan pemrosesan wafer yang bersih.

Nozzle Pelindung Udara APN: Menggunakan "tirai udara" selama tahap pengeringan untuk melindungi permukaan wafer dan mencegah noda air yang disebabkan oleh residu penguapan cairan.

Pasokan Bahan Kimia yang Fleksibel: Sumber bahan kimia dapat diatur secara fleksibel. Baik sistem Injeksi Langsung Dinamis (DDI) maupun sistem tipe kabinet tersedia, memungkinkan pelanggan untuk memilih secara fleksibel sesuai dengan persyaratan proses spesifik.

Kemudahan Perawatan: Struktur tarik-keluar: Ruang proses dapat ditarik keluar seperti laci untuk memudahkan pembersihan, penggantian komponen, dan pekerjaan perawatan lainnya, sehingga secara efektif mengurangi waktu henti peralatan. Area Aplikasi: Dari Penelitian & Pengembangan Mutakhir hingga Manufaktur yang Sudah Mapan

SU-3200 memiliki berbagai macam aplikasi, mencakup berbagai tahapan penting dalam pembuatan semikonduktor.

Chip Logika dan Memori Tingkat Lanjut: SU-3200 digunakan dalam penelitian dan pengembangan serta produksi chip, termasuk node 7nm dan yang lebih canggih, baik dalam proses front-end (FEOL) maupun back-end (BEOL).

Material dan Proses Semikonduktor Utama: Di antara banyak proses yang didukungnya adalah pembersihan material semikonduktor generasi ketiga seperti SiC (Silikon Karbida) dan GaN (Galium Nitrida).

Penelitian Mutakhir dan Kolaborasi Ekosistem: Kinerja SU-3200 yang mumpuni menjadikannya pilihan lembaga R&D terkemuka di seluruh dunia. Misalnya, IBM telah menerapkan SU-3200 di pusat penelitian semikonduktornya di Albany, New York. Lebih lanjut, SCREEN telah bermitra dengan Applied Materials, memasang SU-3200 di META Center untuk mengembangkan proses chip yang lebih canggih.

Posisi Pasar dan Kontribusi Historis

SU-3200 bukan hanya produk yang sukses, tetapi juga faktor kunci dalam membangun posisi kepemimpinan pasar SCREEN.

Dominasi Pasar: Menyusul keberhasilan SU-3200, SCREEN semakin memperkuat posisinya sebagai pemimpin di bidang peralatan pembersih. Menurut data resmi SCREEN, hingga Juli 2025, pengiriman kumulatif peralatan pembersih semikonduktornya telah melampaui 15.000 unit, memegang pangsa pasar global nomor satu di berbagai segmen termasuk pembersihan wafer tunggal, pembersihan batch, dan pembersihan putar.

Pilar Pendapatan: Untuk waktu yang lama, SU-3200 adalah produk andalan SCREEN, dan pendapatan bisnis peralatan pembersihnya sangat bergantung pada model ini.